首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

40 keV质子辐照对HfO2/SiO2高反射薄膜激光损伤性能影响试验研究
作者姓名:管爽  于强  李宇  王亚南  王可  韩佳岐  钮信尚  马彬
作者单位:1.同济大学 物理科学与工程学院,上海 200092
基金项目:国家自然科学基金项目(编号:61675156;61975153)
摘    要:在低地球轨道,低能质子辐照是造成空间光学元器件损坏的重要因素之一。激光高反射薄膜是空间激光系统中激光产生和输出部件的重要组成部分,其激光损伤性能变化直接影响激光系统的稳定性。文章采用地面空间环境模拟装置模拟低能(40 keV)质子单独作用效果,通过定点原位测量技术和光热吸收测试获得薄膜的光谱透射率、表面形貌和光热吸收特性,采用激光损伤阈值测量方法表征微小初始破坏的激光损伤阈值及损伤形貌;结合SRIM程序模拟计算粒子在材料中输运的具体过程,定量分析过程中的能量损失情况。试验结果表明,40 keV质子辐照会造成HfO2/SiO2三波段高反膜的激光损伤阈值明显降低。

关 键 词:低能质子辐照   空间高反射薄膜   激光损伤阈值   损伤机制
收稿时间:2021-06-02
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《航天器环境工程》浏览原始摘要信息
点击此处可从《航天器环境工程》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号