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Nb+Ni中间层对Ti2AlNb与GH4169扩散连接接头组织与性能影响
引用本文:钱锦文,李京龙,侯金保,熊江涛,张赋升,韩增产.Nb+Ni中间层对Ti2AlNb与GH4169扩散连接接头组织与性能影响[J].航空材料学报,2009,29(1):57-62.
作者姓名:钱锦文  李京龙  侯金保  熊江涛  张赋升  韩增产
作者单位:1. 西北工业大学,摩擦焊接陕西省重点实验室,西安,710072
2. 北京航空制造工程研究所,北京,100024
摘    要:在950~1100℃,20MPa,20~120min的工艺条件下,添加厚度均为10μm的Ni+Nb为中间层,对Ti2AlNb与GH4169真空扩散连接工艺进行了研究.利用扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射(XRD)对接头截面和断口的成分和相组成进行了分析.结果表明,添加Ni+Nb做中间层能实现Ti2AlNb与GH4169良好的连接.在GH4169与Ti2AlNb之间生成6层反应层,自GH4169侧依次为:Fe-Ni-Cr固溶体,Ni3Nb,Ni6Nb7,残留Nb层、Ti-Nb固溶体、高铌O相.在剪切试验中,接头沿Ni3Nb层与Nb层之间的Ni6Nb7层断裂.在1050℃,20MPa,40min工艺条件下,剪切强度达到最高,为460MPa.

关 键 词:Nb  Ni中间层

Microstructures and Mechanical Properities of Diffusion Bonded Ti_2AlNb and GH4169 Jionts by Using Nb+Ni Interlayer
QIAN Jin-wen,LI Jing-long,HOU Jin-bao,XIONG Jiang-tao,ZHANG Fu-sheng,HAN Zeng-chan.Microstructures and Mechanical Properities of Diffusion Bonded Ti_2AlNb and GH4169 Jionts by Using Nb+Ni Interlayer[J].Journal of Aeronautical Materials,2009,29(1):57-62.
Authors:QIAN Jin-wen  LI Jing-long  HOU Jin-bao  XIONG Jiang-tao  ZHANG Fu-sheng  HAN Zeng-chan
Institution:1.Shaanxi Key Laboratory of Friction Welding Technologies;Northwestern Polytechnical University;Xi'an 710072;China;2.Beijing Aeronautical Manufacturing Technology Research Institute;Beijing 100024;China
Abstract:
Keywords:Ti2AlNb  GH4169
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