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| 离子束加工KDP晶体材料表面粗糙度演变 | |
| 引用本文： | 冯殊瑞,解旭辉,周林,袁征.离子束加工KDP晶体材料表面粗糙度演变[J].航空精密制造技术,2012,48(6). |
| 作者姓名： | 冯殊瑞 解旭辉 周林 袁征 |
| 作者单位： | 国防科学技术大学机电工程与自动化学院,长沙,410073 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 针对KDP晶体材料在离子束加工时晶体表面粗糙度变化情况进行了研究,研究了束电压和束电流的大小对KDP晶体表面粗糙度的影响,采用PSD功率谱分析方法探究了KDP晶体在离子束加工前后表面粗糙度频域分布及其演变情况,研究结果表明KDP晶体表面粗糙度的变化不仅与加工工艺参数有关还与材料本身性质有关,在采用较大入射角时可以使晶体表面的高频段误差得到改善. |
| 关 键 词： | KDP晶体 离子束 粗糙度 |
Evolvement on Surface Roughness of KDP Crystal in Ion Beam Figuring |
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