| 冷态输送ZrCl4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备 |
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| 引用本文： | 刘岗,李国栋,熊翔,王雅雷,陈招科,孙威.冷态输送ZrCl4低压化学气相沉积ZrC涂层的制备[J].航空材料学报,2011,31(6):36-42. |
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| 作者姓名： | 刘岗 李国栋 熊翔 王雅雷 陈招科 孙威 |
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| 作者单位： | 中南大学粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划，国家自然科学基金创新研究群体项目，国家重点基础研究发展计划 |
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| 摘 要： | 采用zrCl4-CH4-H2-Ar反应体系,冷态输送ZrCl4粉末化学气相沉积(CVD)制备ZrC涂层.采用热力学计算并结合实验结果分析了冷态输送ZrCl4化学气相沉积ZrC涂层的特点,采用X射线衍射仪和扫描电镜分析了涂层的物相组成、表面形貌和组织结构.结果表明:冷态输送ZrCl4粉末大幅度降低了ZrC的化学气相沉积温...
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| 关 键 词： | ZrC涂层 CVD 冷态输送ZrCl4 表面形貌 组织结构 生长机理 |
Preparation of ZrC Film by Transporting Solid ZrCl4 during Low Pressure Chemical Vapor Deposition |
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| LIU Gang,LI Guo-dong,XIONG Xiang,WANG Ya-lei,CHEN Zhao-ke,SUN Wei.Preparation of ZrC Film by Transporting Solid ZrCl4 during Low Pressure Chemical Vapor Deposition[J].Journal of Aeronautical Materials,2011,31(6):36-42. |
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| Authors: | LIU Gang LI Guo-dong XIONG Xiang WANG Ya-lei CHEN Zhao-ke SUN Wei |
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