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| 新的微细加工技术 | |
| 作者姓名： | 安卫 |
| 摘 要： | 新的微细加工技术美国国家标准技术研究所和哈佛大学正在研究一种新的微细刻蚀方法，即用粒子束代替光束．目前，用光刻的方法剜蚀集成电路可达０３５ｐｍ的尺寸．在１０年内，光刻尺寸将达到０１３ｐｍ的极限．使用新的加工方法可＄Ｊ蚀出具有几十纳米尺寸的图形．光刻尺... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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