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硅液相外延工艺研究
引用本文:
江鉴,张仕国.硅液相外延工艺研究[J].上海航天,1998,15(1):39-61.
作者姓名:
江鉴
张仕国
作者单位:
航天工业总公司八院809所(江鉴),浙江大学硅材料科学国家重点实验室(张仕国)
摘 要:
根据硅液相外延研究过程中的现象及结果,具体讨论了硅液相外延工艺中四个关键环节,给出了衬底处理,溶源,衬底保护,残余熔体处理的方法。
关 键 词:
硅液相外延
薄膜
工艺
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