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| 硅液相外延工艺研究 | |
| 引用本文： | 江鉴,张仕国.硅液相外延工艺研究[J].上海航天,1998,15(1):39-61. |
| 作者姓名： | 江鉴 张仕国 |
| 作者单位： | 航天工业总公司八院８０９所(江鉴)，浙江大学硅材料科学国家重点实验室(张仕国) |
| 摘 要： | 根据硅液相外延研究过程中的现象及结果，具体讨论了硅液相外延工艺中四个关键环节，给出了衬底处理，溶源，衬底保护，残余熔体处理的方法。 |
| 关 键 词： | 硅液相外延 薄膜 工艺 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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