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| 表面粗糙度对高辐射涂层发射率的影响 | |
| 引用本文： | 李俊峰. 表面粗糙度对高辐射涂层发射率的影响[J]. 宇航材料工艺, 2013, 43(6) |
| 作者姓名： | 李俊峰 |
| 作者单位： | 航天材料及工艺研究所 |
| 摘 要： | 以氧化铁、碳化硅和氧化钴为高辐射填料,通过控制涂层浆料固含量和喷涂次数制备出了不同表 面粗糙度的高辐射涂层。用AE 辐射计测试了不同表面粗糙度高辐射涂层的室温发射率,根据GB/ T 7287— 2008 测试了涂层的800℃高温发射率,用扫描电子显微镜和光学显微镜观察了涂层表面形貌,用扫描探针显微 镜测试了涂层的表面粗糙度。结果表明,在辐射换热条件下高辐射涂层表面粗糙度在2. 75 ~225. 70 μm 变化 时,其室温发射率发生了0. 02 ~ 0. 05 的变化。而在导热换热条件下高辐射涂层表面粗糙度在2. 75 ~ 36. 99 μm 变化时,其高温发射率没有变化。 |
| 关 键 词： | 表面粗糙度 涂层 室温发射率 高温发射率 |
Influence of Surface Roughness on The Emissivity of High Emissivity Coatings |
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| Affiliation: | Aerospace Research Institute of Materials & Processing Technology |
| Abstract: | |
| Keywords: | Surface roughness Coating Room-temperature emissivity High-temperature emissivity |
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