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二硫化钼对二次电子倍增效应的抑制作用研究
作者姓名:程苗苗  朱媛媛  赵亚楠  胡天存  杨晶  胡忠强  刘明
作者单位:西安交通大学 电子科学与工程学院 电子陶瓷与器件教育部重点实验室与国际电介质研究中心,西安 710049;中国空间技术研究院西安分院 空间微波技术重点实验室,西安710000
基金项目:国防科技重点实验室开放项目(编号:6142411191110);国家青年项目(编号:12004297)
摘    要:基于镀银铝合金材料的微波部件在高真空及大功率工作时容易产生二次电子倍增效应,引起噪声电平抬高,输出功率下降,导致微波部件失效。有效抑制二次电子倍增效应,对于空间微波部件的正常运行极为重要。二硫化钼不仅具有与石墨烯类似的结构,而且其带隙可调,具有出色的电学、光学等性能。通过水热法制备了二硫化钼,并将其涂覆在镀银铝合金材料的表面,研究了复合材料的二次电子发射特性。结果表明,合成的二硫化钼具有花瓣状的纳米结构,并可以显著降低镀银铝合金表面的二次电子发射系数至0.63,原因是三维形态的纳米花瓣状二硫化钼可在微波部件表面构建无数个“微陷阱”,使得二次电子被捕获的几率增加,从而降低其逸出材料表面的概率。表面涂覆二硫化钼的镀银铝合金材料可望用于提高大功率微波部件的阈值功率。

关 键 词:二硫化钼  水热法  二次电子产率  纳米花瓣状

Investigation on the suppression effect of multipactor by MoS2
Authors:CHENG Miaomaio  ZHU Yuanyuan  ZHAO Yanan  HU Tiancun  YANG Jing  HU Zhongqiang  LIU Ming
Abstract:
Keywords:MoS2  hydrothermal method  secondary electron yield  nano-petal
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