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| 氯化铁溶液腐蚀印制电路的试验 | |
| 引用本文： | 王津生.氯化铁溶液腐蚀印制电路的试验[J].航天制造技术,1986(4). |
| 作者姓名： | 王津生 |
| 摘 要： | 本文针对氯化铁腐蚀液的腐蚀原理和生产操作中影响腐蚀的几种因素作初步分析。 一、反应过程 铜箔在工业三氯化铁溶液中的反应过程是以氧化——还原反应为主,其分步反应方程式如下: |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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