TiO_2薄膜的制备及其光催化性能的研究

采用溶胶-凝胶法制备了TiO2薄膜,以10mg/L甲基橙为目标降解物,研究了焙烧温度、镀膜层数、紫外线光照时间对TiO2薄膜光催化性能的影响.实验结果表明,焙烧温度为500℃,镀膜层数为三层所制得TiO2薄膜光催化活性最好,并且具有稳定、持续的降解效果.     

阳极氧化TiO2膜对甲基橙溶液的光催化性能研究

本试验利用阳极氧化的方法在纯钛基体上直接获得锐钛相T iO2多孔膜,解决T iO2光催化剂的涂敷固定问题。用场发射扫描电镜(F ie ld em iss ion scann ing e lectron m icroscope,FESEM)和X射线衍射仪(X-ray d iffractionm eter,XRD)对纯钛表面生成的T iO2多孔膜的形貌和晶体结构进行分析。以10m g/L甲基橙溶液为降解物进行光催化试验,分别研究了阳极氧化电压、溶液的初始pH值、T iO2膜的面积、T iO2膜的使用次数对降解率的影响。试验结果表明,当溶液初始pH值为1时,140V阳极氧化所得T iO2膜的光催化性能最好,同时随着T iO2膜使用次数的增加,但其光催化效果有所下降。     

对有害气体和颗粒特性及净化新技术的探讨

对在人类所处的空间中对人体有害作用的几种常见无机、有机气体及颗粒的来源和基本性质以及危害进行阐述,目的加强人们对这些危害物质的认识,并对当前的净化技术以及最新的净化新技术-以纳米氧化钛光催化技术的净化机理以及净化效果作了阐述与探索,其技术价格低廉、无毒无害、稳定性好,具有很好的应用前景。     

Fe^3＋／SO4^2-／TiO2光催化氧化苯酚研究

采用溶胶-凝胶法制备Fe^3＋／SO4^2-／TiO2光催化剂，以紫外光为光源，研究不同实验条件下对苯酚的光催化氧化。结果表明：催化剂投加量以2-3g／L为最佳范围；pH=6．7—9．0时苯酚去除率较高；溶液初始浓度越高。C0Dcr去除率越低；H2O2质量浓度为90mg/L时，光催化效果达到最佳；Cr^6＋浓度为8μg/mL时CODcr，去除率达到最大，Cr^6＋的还原率达90％以上；Hg^2＋对CDDcr去除率没有较大的影响，Hg^2＋的还原率99．5％。     

芬顿反应与TiO2光催化氧化甲基橙的研究

分别采用Fe^2＋及TiO2作为光催化剂，考察了它们对甲基橙的降解率。结果表明：在芬顿反应体系中加人NaOH时，可有效地阻止反应的进行；pH=4时，光催化氧化率最高；甲基橙溶液浓度越低，光催化氧化效果越好；改进后的光催化剂对甲基橙的分解率明显提高，不会生成草酸的铁盐沉淀；H2O2＋FeC2O4、H2O2＋FeSO4、TiO2三种体系的光催化性能大小依次为H2O2＋FeC2O4〉TiPO2〉H2O02＋FeSO4。     

有机废水的TiO2光催化氧化处理技术浅析

TiO2以优良的催化性能，被有机废水处理领域日益广泛采用。本文对TiO2光催化氧化技术的研究发展进程作了概要综述，并对该技术在有机污水处理领域的应用作了阐述，对实际工作具有一定的指导意义。     

一种磁载光催化剂的制备及光催化活性的研究

采用溶胶-凝胶法,在磁性颗粒表面包覆T iO2,制备了易于固液分离的纳米级磁载光催化剂T iO2/S iO2/F e3O4,并通过TEM,IR,XRD等对样品进行表征。以有机污水为降解对象,研究了磁载光催化剂的光催化活性。研究结果表明,包覆S iO2有利于提高磁载光催化剂的光催化活性,光催化剂能使有机污水快速降解,5次循环使用后降解率达90%以上,且光催化剂能快速地从液相中分离回收。同时磁载光催化剂具有较高的光催化活性,对高盐污水、含酚污水的降解率分别可达到99%,86.8%,对染料污水也有良好的降解效果,并具有磁性回收的特点,应用前景广泛。     

等离子喷涂纳米TiO2涂层及其光催化性能

原始喷涂粉末经过喷雾干燥法造粒,采用等离子喷涂工艺在普通载玻片上制备了纳米TiO₂涂层,并对涂层在300℃,400℃,500℃进行热处理.采用X射线衍射(XRD)方法对TiO₂涂层进行了相结构分析;用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)观察涂层的微观形貌;用压汞方法测量涂层的孔隙率.结果表明,喷涂后锐钛矿型TiO₂含量大约在30%~50%,粒径10~30nm,孔隙率小于6%,热处理后涂层更致密,孔隙率降低.喷涂电流为400A且未经过热处理的TiO₂涂层具有最佳光催化效果.     

TiO2光催化还原Hg(Ⅱ)

采用溶胶-凝胶法制备TiO2粉体，考察了它当铬离子存在时对汞离子溶液的光催化还原效果。结果表明，当TiO2的用量为2g／L、汞初始浓度为7μg／mL时，光催化还原效率最高。在体系中通入N2保护，还原率明显提高。用无定形TiO2作为光催化剂，还原率不稳定。     

P型Si(100)化学镀NiP薄膜的制备及性能研究

采用化学镀的方法在组成为NiSO4.6H2O NaH2PO2.H2O Na3C6H5O7.H2O的化学镀液中与Pd活化的p型Si(100)表面制备了NiP薄膜,利用X射线能量色散谱(EDX)对NiP薄膜的成分进行了表征。用原子力显微镜(AFM)和电化学阳极溶出(ASV)的方法对不同化学镀时间下的NiP薄膜在Si表面的覆盖度进行了研究。结果表明,在表面覆盖度Γ达到4.03×10-8mol/cm2时,表面覆盖达到饱和,此时颗粒大小均一,并分布均匀。以NiP/Si为工作电极,在0.5 mol/L1的H2SO4溶液中分别在光照和暗态条件下对不同化学镀时间的NiP薄膜进行阴极极化扫描,结果表明,在Si表面未完全被覆盖和过度被覆盖的情况下光电催化的性能都没有达到最高,仅当Si表面被完全覆盖时,具有最强的光电催化析氢特性。