激光陀螺稳频反射镜的选择

讨论了球面及平面两种稳频反射镜的加工误差对陀螺腔内光路的偏移作用， 分析了腔内光路随这两种反射镜在稳频平移过程中的变化规律以及光路不对称变形对陀螺朗缪尔零漂的影响。分析结果表明： 无论从稳频反射镜存在加工误差考虑， 还是从稳频平移对陀螺性能影响的考虑， 选择球面镜作稳频反射镜要优于平面镜。     

卫星推进及控制装置准直测量方法研究

在传统的卫星推进及控制装置准直测量方法的基础上,提出两种新的测量方法,即小角度准直测量法和三维坐标准直测量法,并给出了相应的数据处理方法。所提出的方法测量精度高、测量速度快,无需转台整平,也不必对转台上的定位销进行精确准直。     

碳／环氧复合材料两次表面镜基板研制

文章介绍了碳／环氧复合材料两次表面镜基板的结构与铺层、选材与成型工艺，性能测试等内容。     

长焦距镜面的相位恢复检测技术研究

针对长焦距光学镜面在位检测的难题,引入相位恢复测量原理,提出了一种基于补偿镜的新测量方法以实现镜面的近距离在位检测.对测量原理和测量方案进行了分析,并构建了测量装置.     

热控涂层电子辐照效应

研究防静电Kapton二次表面镜(ITO/Kapton/Al)、S781白漆两种典型热控涂层,在不同能量电子辐照后太阳吸收比退化情况,并利用X射线光电子能谱和扫描电子显微镜对样品表面的成分和形貌进行了分析。结果表明:相同电子注量下,不同能量电子对样品的太阳吸收比退化作用程度是有区别的。而样品光谱反射率、表面形貌、表面成分的损伤效应类似,说明不同能量电子辐照下,样品的退化机理是一致的。     

光学镜体用铍材及其尺寸稳定性

文中评述了铍材用作光学镜体的优越性及其发展状部况,讨论了影响铍镜尺寸稳定 因素及提高尺寸稳定性的可能途径。     

UV镜对摄影测量精度的影响及消除方法研究

针对摄影测量中加入UV镜后对测量结果的影响问题进行了研究。通过理论推导UV镜对于像点坐标偏移的影响,得出UV镜对像点偏移的影响规律,并提出采用自检校光束法平差的方法消除UV镜对像点偏移的影响,实验证明本文得出的对UV镜产生的像点偏移规律的分析及解决方法都是正确的。     

飞行训练模拟器广角无限显示系统设计

飞行训练模拟器广角无限显示系统是飞行训练模拟器的重要组成部分,其设计质量直接影响到飞行模拟器的性能.而广角无限显示系统中准直镜和背投屏的面形是决定广角无限显示系统成像质量的关键因素,因此,准直镜和背投屏的设计成为研制广角无限显示系统的关键.针对设计适用于双座飞机飞行模拟的广角无限显示系统的技术要求,讨论了零视场消像散条件,选取可保证零视场像散为零的镯形面作为准直反射镜的面形,确定了准直镜的尺寸;以弥散斑最小为原则,通过反向光线追迹得到了背投屏的面形和位置,最后进行了准直精度计算.设计的广角无限显示系统可达到水平视场180°,垂直视场45°,已用于飞行训练.      

过氧化氢/紫外线/臭氧氧化技术处理肼类污水的应用

采用放大试验规模（处理量1 m³/h）的H₂O₂（过氧化氢）/UV（紫外线）/O₃（臭氧）氧化技术处理肼类推进剂污水,在30.0±1.6 ℃,pH=9.0±0.2的条件下,研究肼类的过氧化氢增强光解臭氧化降解。对比不同氧化技术的协同效应以及对污水降解的影响,重点考察过氧化氢、紫外线、臭氧和初始浓度等工艺参数对降解效果的影响,对氧化技术的应用进行了优化。研究结果表明：该技术可使COD去除率提高27.66%,肼类的降解速率随着过氧化氢投加量、紫外线辐射强度、O₃投加速率和水质地提高而升高,随着初始质量浓度的提高而下降。在最佳工艺下,处理5 000 mg/L质量浓度的废水,处理60 min时,COD去除率分别为98.62%（偏二甲肼）、99.17%（甲基肼）、99.94%（肼）和93.25%（单推-3）。     

带摆镜的制冷型中波红外像方扫描光学系统设计

基本形式的像方扫描光学系统依然需要复杂的二维回转机构带动成像镜组做二维扫描,所以二维回转机构需要承担较大载荷。分析了基本形式的像方扫描光学系统形式,并在基本形式基础上加入摆镜,只通过二维摆镜的旋转达到扫描像面的目的,大大减小二维回转机构载荷,提高扫描速度,简化了系统结构,减小了系统体积。加入摆镜后的光学系统除具有基本形式像方扫描光学系统的性质外,还有了新的限制条件,对带摆镜的像方扫描光学系统进行了分析,提出了设计条件及设计方法,并设计出具有较大视场的像方扫描光学系统。