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IBAD法沉积TiN薄膜的机械和耐腐性 总被引:4,自引:0,他引:4
用离子束辅助沉积(IBAD)方法在医用不锈钢317L基底上沉积TiN陶瓷薄膜。通过X射线衍射(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分析研究了薄膜的微结构;测试了薄膜的耐磨性及薄膜与基底的附着力:运用电化学腐蚀的方法检测了薄膜在Hank’s模拟体液中的耐腐蚀性能。研究结果表明:用高、低能氮离子束兼用的IBAD方法沉积TiN多晶薄膜后,材料表面结构和性能发生明显改变。表面硬度和耐磨性有明显提高,在Hank’s模拟体液中显示出更强的抗腐蚀能力。 相似文献
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