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本文介绍PbS元件制备工艺的改进情况。此工艺是在基板上预先生长籽晶层,然后在高度碱性溶液中引进铜离子和亚硫酸盐沉淀光电导薄膜。整个化学过程在静止状态中进行,从而有效地控制了晶粒成长和反应速度,形成均匀的PbS沉淀薄膜,提高了光导灵敏度。 相似文献
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引 言 光刻是一种精密的表面加工技术,是由照相和化学腐蚀相结合,在集成电路和半导体器件表面修刻的关键工艺。它最初出现在印刷照相制版上,由照相和化学腐蚀技术制取印刷用凸版,在1942年Fanl Zisla(英)发明了印刷布线技术,逐渐作为微细图形表面加工的方法推广到印刷电路中去。 相似文献
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