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红外成像导弹的不断发展产生了这样一种需求即能完全表示红外场景的发生器。为了正确测试这些系统,就需要场景发生器具有非常大的动态范围。这是用电阻器加热元件阵列标准方法不易制成。本文描述了红外光学调制器的制造,它用于大动态范围及高帧速场景的生成。用加热可变反射率薄膜的方法产生调制,可通过反应溅射工艺,在一块适当厚度基片上生长一层二氧化钒(VO2)薄膜来实现。在大约68℃时,VO2历经了半导体向金属态的相变过程,就是利用反射率的相应变化制成了调制器。在生产高帧速器件过程中,VO2薄膜精确的化学成分至关重要。本文描述了透射型和反射型两种类型的调制器。 相似文献
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