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研究了制备工艺对微波等离子体CVD金刚石成膜质量的影响。详细讨论了基片在等离子体中的位置、基片台结构、N2等离子体预处理及启动条件对金刚石成膜均匀性的影响。提出了能获得均匀金刚石膜的制备工艺程序。 相似文献
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研究了Mo、Nb镀层对YG6基体上金刚石形核及生长的影响。结果表明。厚度3000的Mo镀层促进了金刚石形核,而Nb镀层的存在却不利于金刚石形核。但是,两种镀层均不改变金刚石晶粒的形貌待征。 相似文献
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用于合成金刚石薄膜的微波等离子体CVD系统 总被引:2,自引:0,他引:2
研制了一套功率容量大、结构合理、工作稳定的微波等离子体CVD系统。描述了系统的基本结构和性能,讨论了它的特点。作者利用该系统,在单晶Si等衬底材料上成功地合成了金刚石薄膜。 相似文献
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通过对Co扩散阻挡层在CVD过程中冶金行为的理论分析,建立了计算Co扩散阻挡层临界厚度δ临的数学模型。指出:阻挡层厚度δ≥δ临是抑制Co对金刚石沉积不良影响的必要条件。 相似文献
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