TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究

利用双层辉光离子渗金属技术（DGPSAT）对TiAl金属间化合物进行渗Cr处理。研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响。结果表明,表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比κ的增加而增加;随阴极电压Vc的增加而减少。气压存在一个峰值,太高或太低都不利。工艺参数的最佳值:源极电压Vs为1200V～1300V,阴极电压为200V～300V,有效功率密度比κ为4～5,气压为25Pa～30Pa。     

TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究

利用双层辉光离子渗金属技术（DGPSAT）对TiA1金属间化合物进行渗Cr处理。研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响。结果表明，表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比k的增加而增加；随阴极电压Vc的增加而减少。气压存在一个峰值，太高或太低都不利。工艺参数的最佳值；源极电压Vs为1200V～1300V，阴极电压的200V～300V，有效功率密度比k为4～5，气压为25Pa～30Pa。