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1.
化学气相沉积法制备氮化硼界面涂层的研究进展
李琳琳
李爱军
彭雨晴
李照谦
汤哲鹏
《宇航材料工艺》
2016,46(4)
阐述了BN界面的优异性能和CVD制备工艺的优缺点,主要介绍了CVD-BN制备过程中沉积温度、源气体比例、热处理温度等各因素的影响,指出CVD法是制备高品质BN界面涂层的优选方法。优化CVD工艺,对其制备原理进行深入研究,将是BN界面涂层研究的重点,获得特定结构、性能稳定、厚度可控的BN界面相涂层是CVD法制备BN界面相涂层的难点。
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