基于ADF4153的频率合成器设计

设计实现一种基于ADF4153的频率合成器,介绍该频率合成器的构成原理。结合测试结果对本频率合成器进行相位噪声性能分析和杂散分析,并提出相应的改善措施。利用软件仿真对环路的稳定性进行分析。测试及分析结果表明,本频率合成器相位噪声水平可达-96.59dBc@10kHz,杂散抑制大于45dBc,频率合成器环路工作稳定。     

正态分布单元可用度及其影响因素分析

在航空航天系统中,可修复单元的故障密度和修复密度并非总是服从指数分布,实际存在着正态分布情况,不能采用马尔可夫状态转移方法处理。文章以故障密度和修复密度都服从正态分布的产品为例,通过数值求解微分方程组,分析了正态分布单元的可用度变化规律以及影响因素。     

细节信息容量与MTF相关分析

文章从信息容量的角度出发,对图像宏观质量做出评价,再通过研究图像的细节信息容量参数,对在宏观上质量相当的图像做出更进一步的评价,挑选出边缘清晰、纹理等细节信息丰富的图像。然后将该评价参数与Ealing仪测得的调制传递函数(MTF)值的变化趋势作曲线回归分析,实验结果表明,细节信息容量与数字成像系统的MTF值的变化有着很好的正相关关系,这对评价数字成像系统MTF变化情况具有较好的实际应用价值。     

扩压式叶栅非定常分离流机理研究的频谱分析

二维亚音压气机叶栅非定常分离流中旋涡脱落频率的定性研究,采用数值模拟的方法,通过九种不同工况下流场中多点总压值的快速傅立叶分析,初步提出了区分数值振荡和真实物理振荡的判据,同时得到了这九种工况下非定常分离流中旋涡脱落频率的数值模拟结果。证实在非设计工况下,二维亚音压气机叶栅叶背区出现了较大尺度的开式非定常分离,分离区自身及分离流影响的尾迹区的主要运动形式可能是周期性的旋涡脱落。      

网格编码8PSK系统中最佳码的研究

网格编调制（ＴＣＭ）是一种先进的纠错编码方案。用网格编码８ＰＳＫ系统代替目前广泛使用的ＱＰＳＫ系统,可在不扩展占用带宽的前提下获得可观的编码增益。文章主要研究了在加性白高斯噪声（ＡＷＧＮ）干扰环境下,网格编码８ＰＳＫ系统中最佳码的设计问题。首先对Ｇ．Ｕｎｇｅｒｂｏｅｃｋ和Ｓ．Ｓ．Ｐｉｅｔｒｏｂｏｎ的结果进行了验证,在此基础上修正了“最佳码”的搜索规则,在２维和６维时,分别发现了一些距离参数更优的码。所得结果对ＴＣＭ系统的设计提供了更多的直接依据。     

中国航天科技集团公司主管科技期刊简介

《宇航计测技术》 :1981年创刊 ,由中国航天科技集团公司一院 10 2所与中国航天科工集团公司二院 2 0 3所联合主办。该刊主要报道长度、热学、力学、无线电、时间频率、电磁、化学和光学计量标准的设计、研制和计量测试技术、仪器仪表的检定维修技术、误差分析及数据处理技术等。另外 ,本刊还有石英晶体器件的设计和研制、电子技术应用、自动化测量、计量基础、计量服务、国内外计量信息等栏目。本刊的宗旨是报道计量测试专业的科研成果与进展 ,以达到传递信息 ,促进学术交流 ,推广科研成果的目的。读者对象主要是广大科研单位和厂矿企业从…     

双波束天线阵时空调制OFDM通信测向方法

为解决利用通信信号的测向和通信定位综合设计问题,提出了一种载有方向信息的OFDM时空调制技术。该技术采用两副同中心但方向图有偏差的特殊天线阵列发射,使单天线接收机接收的信号是OFDM特性,每个OFDM子载波调制信号载有空间方位信息和数字通信信息,接收机通过解调信号即可通信测向。文中详细介绍了非正交四相和非均匀八相子载波时空调制信号设计思想,阐述了子载波间伪随机码空间调制编码方法,给出了数据信息调解和方位角估计算法。计算机仿真结果表明:在高斯信道下系统的误码性能与普通PSK-OFDM一样,实现了在调制信号设计层面上的数字通信与测向的深度综合。     

OFDM多载波系统中的自适应技术研究

本文在已有的多载波传输系统的基础上设计了一个改进的多载波系统模型,将信道编码技术,OFDM技术以及自适应传输技术相结合,使多载波系统的性能进一步的得到改善。同时本文还给出了一种在原有的传输算法的基础上归纳出的一个改进的传输算法-动态分块加载算法。     

氧化镍电致变色薄膜及其器件的制备与性能研究

以氧化铟锡(ITO)玻璃为基底,采用直流反应磁控溅射法在室温环境下制备了高透过率调制的NiO_x薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子电镜(SEM)、紫外可见分光光度计(UV 3600)对薄膜进行分析和表征,研究溅射过程中氩氧比、气压、功率对薄膜结构、形貌及电致变色性能的影响。结果表明：制备的NiO_x薄膜表面有明显的结晶颗粒及孔隙,并沿(200)晶面择优生长;随着气压、功率、氧分压的增大,透过率调制先增大后减小,在时间为45 min、溅射气压4.9 Pa、氩氧比113∶7、功率215 W时最高可达58.3%,着褪色响应时间分别为9和19s,相应的着褪色效率分别为77.56和40.39 cm²/C;以最优工艺的NiO_x薄膜组装了结构为Glass/ITO/NiO_x/Li-electrolyte/WO₃/ITO/Glass的电致变色器件,器件在550 nm处的光调制幅度为46.5%,着褪色时间分别为27和45 s,相应的着褪色速率为1.5和0.9%/s,在循环...