频率源特性对CEI精度影响分析

频率源特性导致的误差是影响干涉测量精度的因素之一,基于频率源稳定性详细分析了频率基准对CEI （Connected-Element Interferometry,连线端站干涉测量）精度的影响机理,针对差分单向测距/双差分单向测距、本地相关/互相关等各种干涉测量模式,给出了频率源稳定性对测量精度影响的解析表达式,并基于典型条件量化了频率源不稳定带来的误差大小,给出了能够满足CEI的频率源稳定性指标的建议.分析计算结果表明：如果要解出载波相位延迟量,在其他误差因素不会导致相位模糊的情况下,针对X频段差分单向测距,频率源稳定性优于8.5×10^-12/s即可;针对双差分单向测距,对频率源稳定性的要求可进一步放宽.由此可以认为：在CEI模式下,较好的铷频标即可满足测量要求.     

多输入多输出雷达的非均匀线性阵列配置(英文)

提出了利用非均匀线性阵列(Non-uniform linear array,NLA)对多输入多输出(Multiple-input multipleoutput,MIMO)雷达系统进行阵列配置优化的方法。在传统的相控阵雷达中,非均匀线性阵列配置被用来形成较窄的波束方向图,而在MIMO雷达中,利用非均匀线性阵列来获得更多的互不相同的虚拟阵元,以此来提高雷达的参数可辨识性能。文中所采用的一种非均匀线性阵列是最小冗余线性阵列,并给出了一种在物理阵元数量较大时最小冗余线性阵列的生成方法。实验结果表明:与均匀线性阵列(Uniform linear array,ULA)配置的MIMO雷达相比,非均匀线性阵列MIMO雷达能够利用较少的物理天线阵元获得相同的参数可辨识性能;而在两种配置的雷达系统的物理阵元个数相同的情况下,非均匀线性阵列MIMO雷达可以获得更大的阵列孔径长度和更低的克拉美.罗界。     

五坐标端铣加工复杂曲面的曲率干涉

提出的内凹盘铣刀可加工凹曲面又可加工凸曲面,通过改变刀盘轴线姿态,使曲面的截线和刀盘半径有相同的曲率和曲率导数。     

提高端齿盘研磨效率的研究（二）

本文研究了在多磨粒、多冲击条件下端齿盘模拟对研时工艺参数对金属去除率的影响。     

多坐标数控刀具位置数据生成

在对零件曲面进行刀具接触路径规划之后,计算刀具位置路径。所谓的“刀具位置路径”,是指刀具中心的轨迹,在圆柱端铣刀中,刀具中心在圆柱底端面圆的中心,在五轴圆柱端铣刀加工中,只要确定刀具中心和刀具轴线方向矢量,便能定位刀具与零件曲面之间的运动。     

丁羟胶重均官能度及其与推进剂最佳固化参数相关性的研究

重均官能度具有按当量数分数加和的性质。利用实验数据统计处理的方法,证明了丁羟胶重均官能度与推进剂最佳固化参数线性相关,为选择丁羟固体推进剂的配方和装药最佳固化参数提供了依据。     

AutoCAD中的文本输入浅析

AutoCAD是应用广泛的CAD软件,它具有很强的绘图和编辑功能。其绘制的图样为了能清楚地表达设计者的思想和意图,往往需要加注必要的文字来说明用图形所无法表达的信息。本文简述AutoCAD中文本的几种输入方式。     

天线互耦和激励对MIMO—OFDM系统抗干扰性能的影响

在简介MIMO-OFDM系统基本原理的基础上,讨论天线单元的耦合和激励对MIMO-OFDM系统抗干扰性能的影响。采用MVDR波束形成算法,通过仿真例子可以看出,当天线单元实际存在互耦和激励误差时天线的抗干扰性能较理想情况会有所下降,表明要充分保持MIMO-OFDM的抗干扰性能需要考虑互耦效应和激励误差。