真空差压铸造微电脑控制系统的硬件设计

介绍了微电脑真空差压铸造控制系统的组成及工作原理,设计了压力检测电路、调节阀控制电路和串行通信接口电路,同时说明了系统的调试,并给出了实验结论。结果表明,该系统的硬件电路设计合理,运行情况良好,并达到了设计指标。     

真空热处理Nadcap认证流程及不符合项来源分析

本文介绍了真空热处理Nadcap认证流程,分析了真空热处理Nadcap认证中主要不符合项的来源及产生不符合项的原因,提出了真空热处理Nadcap认证的几点建议。     

四腔体滤波器薄板拼焊的结构设计与钎焊

文章简要介绍了采用薄板拼焊四腔体滤波器的结构设计与加工,解析了各零件的结构特点和相互间的配合关系,为类似的整体加工困难的结构件进行整体分解、零件加工和钎焊成形提供一个范例。     

卫星天线高低温热变形测量技术综述

卫星天线产品在进入轨道工作之前需要在地面进行模拟空间环境的高低温热变形测量。文章依据测量设备所处环境及测量方式将卫星天线高低温热变形测量划分为常压高低温测量和真空高低温测量,介绍了真空罐和常压高低温箱测量方式的工作模式及应用范围。此外,还对高低温热变形测量的特点、误差影响因素、现存的问题做了介绍和讨论。最后对卫星天线高低温热变形测量的未来重点研究方向给出建议。     

红外加热笼覆盖系数对热流均匀性的影响研究

通过设定红外加热笼与卫星表面之间不同距离,改变加热笼的覆盖系数,仿真模拟了卫星表面到达热流的分布,研究了加热笼的覆盖系数对卫星表面到达热流密度均匀性的影响,分析结果表明：当加热笼距离卫星表面100mm以上,选取覆盖系数大于0．06的加热笼,即可满足到达卫星表面热流的均匀性要求。     

基于双光梳的激光吸收谱真空分压力测量技术研究

为了提高真空分压力测量的准确度和灵敏度，弥补传统测量方法的固有缺陷，真空分压力将结合理想气体定律，使用气体密度来表征。利用气体分子的红外吸收光谱，通过双光梳光谱技术测量其对特定波长光的吸收可实现对混合气体中目标气体密度的精确测量，进而反演出真空分压力。研建了基于电光双光梳的真空分压力测量系统，结合双光梳外差光谱技术与腔增强光谱技术，实现了非侵入、大动态、高速度的真空分压力测量。实验对CO₂,CO,N₂三元混合气体中CO₂与CO的真空分压力进行了测量，其相对误差分别为2.84%和2.77%。通过不确定度分析得出，吸收线强度误差是真空分压力测量中最主要的不确定度分量。     

空间用9Cr18 钢PIII 复合离子注入表面改性工艺研究

采用等离子体浸没离子注人(PⅢ)技术对9Cr18轴承钢表面进行了双注入及共注入Ti+N工艺处理.测试了处理前后试样的显微硬度及真空摩擦因数,并表征分析了表面磨损形貌.结果表明:处理后试样的显微硬度都有大幅提高,最大增幅达68.7％；表面真空摩擦因数由0.15下降到0.08；磨斑尺寸及粗糙度分别减少了54.4％和37.4％.双注入与共注入方式在相同参数下,双注入处理后的试样表面综合性能更加优异.     

二硅化钼改性硅酸镱环境障涂层体系抗热震行为及机理

稀土硅酸盐环境障涂层(EBCs)是应用于新一代高推重比航空发动机热端部件的重要材料，但在服役过程中，稀土硅酸盐面层易产生纵向裂纹，为腐蚀性介质进入EBCs体系内部提供通道，使硅黏结层发生氧化并产生裂纹，最终导致EBCs失效。二硅化钼(MoSi₂)具有优异的高温性能，有望改善稀土硅酸盐EBCs体系的高温稳定性。本工作采用MoSi₂改性Yb₂SiO₅面层，通过真空等离子喷涂技术(VPS)分别制备了以Yb₂SiO₅、 Yb₂SiO₅-5%MoSi₂(体积分数，下同)和Yb₂SiO₅-10%MoSi₂作为面层，以Yb₂Si2O₇作为中间层，以Si作为黏结层的三种环境障涂层体系，利用场发射扫描电子显微镜表征了涂层在1350℃热震前后的形貌变化。结果表明：掺杂MoSi₂不仅...     

Parylene C薄膜微波电路的应用可行性研究

针对三防材料在微波电路中多余物防控方面的可行性、可靠性问题,提出在产品表面用真空化学气相沉积法镀Parylene C薄膜,结果表明该膜层可有效控制直径d小于1 mm的可动多余物,提高微波产品PIND(颗粒碰撞粒子检测)测试的合格率.同时与焊接、胶粘、互联、清洗等配装工艺有良好的适配性,且满足可靠性要求.该薄膜较高的绝缘...     

真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究

采用真空磁过滤电弧离子镀方法，在GT35基体上沉积类金刚石膜。通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究，制定出了合理的工艺路线，并对这种膜层进行了X－射线光电子谱（XPS）分析，利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测。结果表明，采用此种方法制备的类金刚石膜层，SP^3含量约为40．1％；组织致密，无大的颗粒；镀膜后的粗糙度可以达到0．015μm；纳米硬度约为55GPa。并将膜层与TiN膜层组成摩擦副，进行了耐磨性试验。结果表明膜层的耐磨性较好。