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41.
储氢材料具有氢含量高,在燃烧过程中产生的燃气平均相对分子质量小等优势,可用于提升固体推进剂等含能材料的比冲。硼氢化镁的氢含量高达14.9%,且含有的B和Mg元素,在燃烧过程中可释放大量的热。文中设计并制备了氟化石墨烯(FGS),并采用液相自组装方式制备了FGS@Mg(BH4)2复合物,分别研究了Mg(BH4)2和FGS@Mg(BH4)2与推进剂常用组分的相容性及药浆的安全性能。结果表明,采用少量的氟化石墨烯即可实现对Mg(BH4)2的包覆,包覆后对Mg(BH4)2的氢含量影响不大。Mg(BH4)2与HMX、CL-20和HTPB相容性良好,但是与GAP粘合剂和AP相容性差,尤其是GAP推进剂药浆加入Mg(BH4)2后,推进剂的摩擦感度和撞击感度很差,甚至引起燃烧等现象。采用FGS@Mg... 相似文献
42.
气液两相流在空间领域具有广阔的应用前景, 深入理解微重力量值(微重力大小)对相分布和液相湍流的影响十分必要. 采用欧拉elax-elax拉格朗日双向耦合模型深入研究了不同微重力量值对相分布和液相湍流的影响. 液相速度场通过直接数值模拟求解, 气泡的运动轨迹由牛顿运动方程跟踪. 研究表明, 气泡分布和液相湍流与微重力量值均具有直接联系. 在低微重力量值下, 气泡近似均匀分布在槽道内, 且对液相湍流统计量几乎没有影响; 然而当微重力量值较高时, 大量气泡聚集在壁面附近, 液相湍流由于气泡的注入受到极大调制. 相似文献
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"通用航空业具有"产业链条长、服务领域广、带动作用强"的特点,激励着各地建设通用机场、发展通用航空。如何理解和把握通用航空的经济贡献和带动作用?笔者将从内涵外延入手,通过中美对比分析路径机理,最后提出发挥通用航空综合经济带动作用的建议。"综合经济贡献的界定本文所说的通用航空对国民经济综合贡献,与我们日常理解的生产了多少金额产品或是赚了多少钱并不是同一件事。 相似文献
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In_xGa_(1-x)As材料具有独特的物理特性,可以通过调节In和Ga的组分来改变材料的带隙宽度Eg。该材料自进入多结空间太阳电池领域以来,就受到了广泛的关注。因此,In_xGa_(1-x)As材料有望成为未来多结空间太阳电池领域中的重要研究对象。本文首先介绍了InGaAs材料的生长工艺及其在多结空间太阳电池领域中的应用情况和研究现状,同时讨论了材料的外延生长工艺以获得高质量含InGaAs材料的多结太阳电池。此外,介绍了近年来InGaAs材料在高效多结空间太阳电池领域的研究进展,并对其抗辐照性能进行了简述。大量研究表明:InGaAs材料的使用可以进一步提升多结空间太阳电池的光电转换效率,达到提升卫星有效载荷的目的。 相似文献
45.
46.
许漂%成来飞%张立同%徐永东%童长青%张青 《宇航材料工艺》2007,37(4):73-77
采用液相浸渍还原法将Ni渗入C/SiC复合材料,用SEM、XRD技术分析材料的微观结构及组成.采用热膨胀仪和激光脉冲导热仪对材料的热膨胀和热扩散性能进行研究.结果表明:Ni在复合材料内部呈颗粒聚集体态,CVD SiC涂层过程中,Ni与SiC基体反应生成Ni2Si.渗Ni后复合材料线胀系数变化趋势在200~700℃内与C/SiC原料的一致,800℃出现肩峰;再经沉积SiC涂层后线胀系数增大,但整体变化趋势仍与原料的一致.渗Ni后材料的热扩散系数明显高于C/SiC材料.Ni的渗入对C/SiC复合材料的三点弯曲强度基本无影响. 相似文献
47.
C/C复合材料致密化制备技术发展现状与前景 总被引:3,自引:2,他引:3
综述了C/C复合材料致密化制备技术,分析比较了化学气相渗透工艺、液相浸渍工艺及化学液-气相沉积工艺的优缺点。认为化学气相沉积工艺在过去一些年中发展很快,但它的工艺周期长;液相浸渍工艺繁杂,其浸渍炭化和石墨化工序需反复多次(通常4-6次),因此其效率也比较低;而液-气相沉积工艺周期短、效率高,很有发展潜力,当前急需开展该沉积技术原理的研究及改进其实验设施。 相似文献
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49.
50.
在Si上生长的异质GaAs外延薄膜(记作GaAs/Si)中,存在着深能级,它们是由各类缺陷的各种不同荷电态所导致的。这些缺陷则是由于GaAs与Si之间存在着很大的晶格失配及热膨胀系数差异所引起的。研究了与GaAs/Si的深能级有关的变温与变激发强度的近红外光致发光谱。实验中所用的GaAs/Si样品是用MOCVD方法生长的,而且具有不同的[As]/[Ga]比。利用组态模型,通过测量发光峰在半极大处的全宽度随温度的变化,获得了Franck-Condon位移。考虑了GaAs/Si的带隙随温度与随失配形变的移动。利用所获得的Franck-Condon位移及带隙移动,修正了施主-受主对、导带-受主及施主-价带间跃迁的能量关系式,给出了新的表达式。按照建立的新的跃迁能量表达式及GaAs/Si外延薄膜发光谱的特征,鉴定出GaAs/Si中的三个发光峰属施主-受主对复合发光,另外两个发光峰则是由As填隙-Ga空位的复合发光中心所产生。 相似文献