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61.
应用Langmu ir双探针测量了距离Hall推力器出口30~100 cm的羽流特性。实验中真空舱压力保持在5×10-4~2×10-3Pa之间。实验证明,电子温度和数密度随着角度和轴向距离的变化而变化,但羽流中远场的电子温度变化幅度很小,基本稳定在0.455 eV左右;电子数密度随着与轴向距离和中心轴夹角的增加而减小。实验结果可为高性能的Hall推力器设计提供参考依据,并为等离子体羽流的数值模拟提供输入条件和验证依据。  相似文献   
62.
通过建立由等离子体声源、PCB压力传感器和高速相机等构成的实验测量系统,研究了强声波脉冲引发的空化气泡运动和二次声辐射。通过实验,观察到了强声波脉冲特有的波形结构,空化气泡的成长、膨胀和坍缩过程以及气泡坍缩时辐射的声信号。其次,利用Gilmore方程和Bernoulli方程,从理论上对空化气泡的运动和声辐射进行了数值模拟和分析。研究结果表明:(1)在强声波脉冲正压区的作用下,空化气泡将受到压缩并围绕"准平衡态半径"振荡;在强声波脉冲负压区的作用下,空化气泡将出现膨胀、坍缩和回弹的物理过程。(2)空化气泡坍缩时周期性辐射的声脉冲持续时间极短,具有"冲击波"的特点。  相似文献   
63.
表面介质阻挡放电等离子体体积力实验   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用粒子图像测速(PIV)技术,在2200,4800,7300,14600Pa空气压力条件下,测量了高频高压表面介质阻挡放电(surface dielectric barrier discharge,SDBD)等离子体诱导流场.根据速度场和N-S方程求解了等离子体体积力分布,分析了空气压力和激励器电压对等离子体体积力影响.实验结果表明:相同空气压力时,激励器电压越高体积力越大.相同激励器电压时,体积力随空气压力升高减小.在体积力分布区域,体积力方向一致,较大体积力区域分布于体积力方向线上游,流场高速流动区域紧挨较大体积力分布区域,位于体积力方向线下游.  相似文献   
64.
测试发动机放热率的核心技术是在运行过程中获得发动机的表面发射率。介绍了航空发动机表面发射率的测量技术,阐述了应用前置反射器辐射温度计和动态红外数字成像仪测量固体表面发射率的原理和方法,提出了航空发动机表面发射率测量中应注意的事项,对几种发动机常用的材料分别采用上述2种方法进行了测量,试验结果表明了2种测量方法的可行性。  相似文献   
65.
数字匹配滤波器在直序扩频快速捕获中的应用   总被引:3,自引:0,他引:3  
数字匹配滤波器(DMF)也称数字相关器,本文对DMF的工作原理做了简要的分析,给出了实现DMF的几种常见的结构,然后给出了DMF的实现过程,着重对DMF在部分并行捕获中的应用做了详细的描述。  相似文献   
66.
非相干多普勒跟踪系统中,星载主振器与地面跟踪站的频率基准不相干。就测速准确度而言,非相干多普勒跟踪的性能低于相干多普勒跟踪,但实现起来比较容易。导频单音法可以消除星载主振器的频率漂移对测速准确度的影响。本文结合无线电干涉仪介绍其工作原理。  相似文献   
67.
国外隐身材料研究进展   总被引:69,自引:7,他引:69       下载免费PDF全文
简单回顾了从二次世界大战至今几十年间,国外隐身材料的发展历程;系统综述了国外在陶瓷材料,导电高分子材料,晶须材料,纳米材料,手征材料等新型隐身材料研究方面所取得的进展,从耐高温隐身材料,智能隐身材料,等离子体隐身三个方面入手,重点介绍了国外近年来在隐身材料领域的最新进展;并且指出了隐身技术未来的发展方向。  相似文献   
68.
. 《推进技术》2000,21(6):24-24
198 8年 10月 ,NASA用DeltaⅡ火箭将深空 1号 (DS1)航天探测器送上了太空 ,验证了包括离子推进系统在内的 12项具有风险的新技术。DS1的离子推进系统是喷气推进实验室 (JPL)计划用于彗核采样返回任务的“基本型”推力系统 ,正式称谓为NSTAR ,即NASA太阳电推进技术应用准备系统 (NASASolarelectricpropulsionTechnologyApplicationReadinesssysteem)。NATAR用一个阴极产生电子 ,电子与氙气碰撞并使其电离。然后氙离子经静电加速通过栅极喷出…  相似文献   
69.
采用冷等离子体对碳纤维缝编织物进行表面处理 ,并采用XRD对处理前后的碳纤维表面结构进行了分析 ,研究了冷等离子体处理对浸润性以及碳纤维缝编织物 /环氧复合材料的层间剪切强度的影响。实验结果表明 ,冷等离子体处理提高了碳纤维表面活性、浸润性 ,从而改善了碳纤维缝编织物 /环氧复合材料的界面粘结性能 ,进而改善了复合材料的界面性能。  相似文献   
70.
等离子体表面技术的研究与应用   总被引:5,自引:0,他引:5  
概述了离子注入、离子束沉积、等离子喷涂、离子镀、等离子体增强化学气相沉积、等离子体化学热处理和双层辉光离子渗金属等等离子体表面技术的基本原理和最新进展,并给出了部分典型实例。  相似文献   
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