微波扫描辐射仪

文中论述了微波扫描辐射仪的工作原理、系统设计、子系统设计的基本思路。     

非规则构件转动惯量的测定

介绍了一般（不对称）三线摆的结构原理，并根据动量矩原理推导了其微角及大角摆动周期的近似表达式，同时说明了一般三线摆的性质及优点。利用此摆可测量不规则小型物体绕指定轴的转动惯量，而且可不需要任何夹具。     

基于IEEE1149．1标准的通用测试机的设计与实现

针对板级或系统级电路的测试问题,本文提出了一种基于IEEE1149．1标准的通用测试机的设计方案,从而实现了对被测电路的在线和离线测试。此外,由于DSP、FPGA等嵌入式技术的使用,使整个系统具有体积小、功耗低、通用性好和便于嵌入到被测电路板等特点。     

工业CT大视场扫描成像方法研究

工业CT二代扫描方式扫描视场大，但扫描时间长；三代扫描方式扫描时间短，但扫描视场小。为解决较大尺寸构件ICT快速检测问题，讨论了一种基于三代扫描的大视场扫描方式，推导了它的FBP重构算法。计算机模拟和实验结果证明了该算法的正确性。分析表明，其有效扫描视野在三代的1．9倍以上。     

基于隧道效应的纳米级轮廓仪

介绍了一种利用量子力学中隧道效应原理工作的纳米级轮廓仪．它可对直径为１３０ｍｍ的光盘、磁盘等较大工件表面直接进行测量，扫描范围为１×１～１４０×１４０μｍ２，Ｘ，Ｙ方向扫描步长为１～８００ｎｍ可调，横向分辨率达几个纳米，纵向分辨率优于１ｎｍ．利用该装置已测得精密光栅、精磨祥块、金刚石镜面车削等表面的纳米级形貌．     

扫描跟踪和图象跟踪之间的协调控制

扫描跟踪和图象跟踪方式之间的协调控制系统设计者提出了一些重要的问题。扫描跟踪用于点目标，图象跟踪用于大面积目标；在任何给定条件下，有时两种方法都可能用到。必须找到协调控制的一个最佳点。目标还可能在扫描跟踪和图象跟踪最佳的状态之间变化。当用一种方式丢失目标后，用另一种方式再次捕获目标又是另一个必须论述的问题。两种方式的局限性是需要考虑的：采用二维空间算法点点目标探测取决于目标和滤波器这两者的外形尺寸大小。图象跟踪的实现主要取决于目标的大小和形状。本文将论述采用典型的扫描跟踪探测点目标的探测算法，简要地介绍一种典型的图象跟踪器并给出几种不同情况下获得的结果。     

TiNi基形状记忆合金薄膜的相变特征研究

利用磁控溅射的方法在单晶Si和非晶SiO2基片上制备了TiNi和TiNiCu形状记忆合金薄膜,并利用示差扫描量热法和基片曲率法研究了薄膜的相变特征及应力随温度的变化.研究结果表明450℃溅射形成的记忆合金薄膜具有良好的形状记忆效应,在微电子机械系统有很好的应用前景.TiNi薄膜降温时出现R相变,因而发生两步相变,而TiNiCu薄膜中马氏体和奥氏体间直接转变.基片以及薄膜成份对相变点有很大的影响.单晶Si片作为基片时,记忆合金薄膜和基片间有很好的结合力,而SiO2作为基片时,记忆合金薄膜容易剥落.