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951.
针对一种基于旋转双螺旋屏幕逐层扫描技术的体三维显示系统,设计并实现了一套支持真实空间三维显示的图形算法体系.算法核心主要包括立体图元的体素化,切片图像渲染和投影同步控制等3个环节.图形系统通过离散三维网格模型获取体三维显示需要的体数据,并根据螺旋屏幕的几何特征将物体的体数据集渲染成切片图像序列发送至高速投影单元,在保持投影与屏幕旋转同步的情况下,快速变换的投影图像基于视觉暂留融合成具有真实物理深度的三维影像.算法在体三维显示器样机上进行了验证,显示的三维影像占据真实物理空间,具备全方向观察角度,围绕显示器可直接观察到立体图像各个不同侧面,如同观察真实物体一样.  相似文献   
952.
基于螺旋旋转屏和数字微镜元件(Digital micro-mirror device,DMD)技术,对原体扫描显示系统原型进行了改进.采用螺旋旋转屏构建体扫描显示系统的成像空间,可改善平面旋转屏体扫描系统中存在的成像空间较小、体素数量较少和体素重叠死区严重等缺陷.利用DMD空间光调制技术,在体素激活子系统中提高了三维数据传输的带宽,达到同时激活多个体素的目的.研制了基于螺旋旋转屏和DMD的体扫描显示系统原型.实验结果表明,所设计的系统原型与前期平面旋转屏系统相比,在成像空间、视觉死区、切片上的体素数量及体素激活能力等方面都有所改善.  相似文献   
953.
秘密信息可信释放策略的研究目前主要集中在内容、时间、地点以及调用主体4个维度上,不同维度的策略侧重于解决可信释放的不同方面,具有一定的局限性。为了确保秘密信息的可信释放,需要综合考虑不同的维度。为此,提出了一种结合内容、地点和调用主体3个维度的可信释放策略。该策略的内容维度限制攻击者不能通过释放机制获取额外的秘密信息,地点维度控制秘密信息仅能在程序中特定语句点释放,而主体维度则限定攻击者不能影响秘密信息释放语句是否被调用执行。通过这3个维度的控制,该策略具有更细的控制粒度,能更好地抵抗信息清洗攻击。此外,建立了策略实施的类型系统,给出了类型系统的可靠性定理及其证明。  相似文献   
954.
给出了马赫数2~6、单位雷诺数(0.8~6.0)×107/m时下吹式风洞中可调节三维进气道的试验研究结果.研究了前缘前掠和后掠方案以及进气道入口前边界层的影响.测量了内流道内的压力分布、质量流量和总压恢复系数;确定了进气道启动与马赫数和流动工况的关系.研究结果表明:边界层对流场结构和模型进气道的性能有着决定性影响,相对简单的进气道调节方案可以增大其稳定运行范围.  相似文献   
955.
针对各向异性复合材料切削表面粗糙度的测量与评定是国内外急待解决的问题,采用Talyscan150表面粗糙度测试仪对C/C复合材料和硬铝(LY12)切削表面粗糙度进行三维非接触测量。通过三维评定参数的对比,研究了C/C与LY12的切削表面粗糙度。结果表明:采用二维评定参数评定C/C的切削表面粗糙度将丢失表面的许多信息,三维评定参数可以更全面、更真实地表达复合材料切削表面粗糙度的特征。C/C切削表面和LY12切削表面在峰态分布以及表面纹理方面具有较大的差别。与LY12切削表面相比较,C/C切削表面有更多的深谷,而且表面没有明显的切削进给波纹。5q参数比5a参数能更好地表达复合材料切削时的纤维拔出与纤维露头的特征。  相似文献   
956.
采用有限微元方法分析了三维编织复合材料的模量与强度.提出了基于计算机模拟实验的三维编织复合材料的拉伸强度分析模型,利用Visual C++6.0实现了对三维编织复合材料拉伸强度的预测,预测结果与实验结果基本一致.  相似文献   
957.
采用座滴法研究了三种钎料Pd-Ni、PdNi-(5~14)Cr(wt%, 下同)和PdNi-(15~26)Cr在Si3N4陶瓷上的润湿情况.结果表明,在1250℃/30min的真空加热条件下,随着Cr元素的加入钎料润湿性逐渐改善.Pd-Ni钎料中未加入Cr的情况下,反应层中主要是Pd参与反应,生成相应的Pd-Si等相,Ni也参与反应生成Ni-Si等相;当钎料中加入活性元素Cr以后,反应层中主要为Cr参与反应,同时生成相应的Cr-N和Cr-Si等相,另外反应层中也有一部分Ni参与反应.在PdNi-(5~14)Cr/ Si3N4的界面反应层中出现了薄的黑色Cr-N层,对于Cr含量更高的PdNi-(15~26)Cr钎料,在靠近Si3N4的界面即形成Cr-N反应层.  相似文献   
958.
采用氩弧焊将Cr3C2-Al-Ni焊丝堆焊于碳钢表面制成Cr3C2/Ni3Al高温耐磨复合材料.利用电弧物理热与Ni,Al反应热在线生成复合材料,增强相尺寸由原料中150μm经溶解析出减小到平均10μm以下,组织均匀稳定.复合材料常温下耐磨粒磨损性能是传统高温耐磨合金Stellite12的2倍.分析认为,在硬度几乎相同情况下,增强相体积分数、增强相尺寸、Ni3Al形变硬化能力是决定复合材料在常温下耐磨粒磨损性能的主要因素.  相似文献   
959.
Alumina dispersion strengthened copper composite (nano-Al2O3/Cu composite) was recently emerged as a kind of potentially vi-able and attractive engineering material for applications requiring high strength, high thermal and electrical conductivities and resistance to softening at elevated temperatures. The nano-Al2O3/Cu composite was produced by internal oxidation. The microstructures of the composite were analyzed by the TEM and its hot deformation behavior was investigated by means of continuous compression tests per-formed on a Gleeble 1500 thermo-simulator. Making use of the modified algorithm–Levenberg-Marquardt (L-M) algorithm BP neural network, a model for predicting the flow stresses during hot deformation was set up on the base of the experimental data. Results show that the microstructures of the composite are characterized by uniform distribution of nano-Al2O3 particles in Cu-matrix. The sliding of dislocations is the main deformation mechanism. The dynamic recovery is the main softening mode with the flow stress decreasing gen-tly from 500 ℃ to 850 ℃. The recrystallization of Cu-matrix can be retarded late into as high as 850 ℃, when it happens only partially. The well-trained BP neural network model can accurately describe the influence of the temperature, strain rate, and true strain on the flow stresses, therefore, it can precisely predict the flow stresses of the composite under given deforming conditions and provide a new way to optimize hot deforming process parameters.  相似文献   
960.
In an attempt of being used as buffer layers and electrodes for the textured BaTiO3 (BTO) ferroelectric thin films, highly (100)-oriented LaNiO3 (LNO) thin films of different thicknesses were deposited directly on Si (100) substrate with radio-frequency (RF) magnetron sputtering method. It is observed that the substrate temperatures and the film thicknesses bring main influences on the micro-structures and orientation of the thin film. The effects of the thicknesses and substrate temperatures on the orientation of the films were studied on the LNO films of different thicknesses. The highly (100)-oriented LNO thin films were obtained at the substrate temperature of 600 ℃. The existence of epitaxially grown BTO films indicates that the oriented LNO thin films obtained in this work could be used as a buffer layer for epitaxial growth.  相似文献   
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