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321.
由于传统提供附加磁场的液冷铜线圈存在体积大、质量大、电耗大等显著缺点,因此电流密度高、体积小、损耗低的高温超导(HTS)磁体在附加场磁等离子发动机(AF MPDT)上的应用受到了广泛的关注。然而由于超导材料的临界特性,HTS磁体容易受到外部磁场的影响而发生失超。文章通过对MPDT放电回路的简化,采用仿真和试验的方法来分析简化回路通电时激发的磁场,并研究其对外围HTS磁体的影响程度。仿真结果表明,MPDT放电室内部磁场以周向磁场为主,且由于阳极壁面电流对内部磁场的屏蔽作用,使得外部几乎没有磁场分布。试验结果和仿真也取得了良好的一致性,因此在设计超导磁喷管时几乎可以不考虑来自MPDT放电室磁场的影响。该研究为HTS磁体在AF MPDT上的应用提供了参考。 相似文献
322.
为改善金属Zn的摩擦磨损性能,采用热压法制备Cr2AlC陶瓷颗粒增强Zn基复合材料,并研究了Cr2AlC质量分数对复合材料的金相组织、维氏硬度、相对密度及摩擦磨损性能的影响。结果表明,复合材料的硬度随着Cr2AlC质量分数的适量增加而明显升高。当Cr2AlC的质量分数达到20%时,复合材料的硬度是纯Zn的1.52倍。摩擦磨损实验表明,Cr2AlC颗粒的引入,可显著改善复合材料的摩擦磨损性能,摩擦系数由纯Zn的0.75降到Zn-20%Cr2AlC的0.65,Zn-30%Cr2AlC的磨损率相比纯Zn下降了80.54%。分析磨损表面形貌,得出其磨损类型为磨粒磨损和剥层磨损。 相似文献
323.
浆料浸渍结合反应熔渗法制备2D C/SiC-Zr B_2复合材料 总被引:1,自引:0,他引:1
利用XRD,SEM,EDS研究浆料浸渍结合反应熔渗法制备2D C/SiC-ZrB2复合材料的组成与结构,并测定了复合材料的弯曲强度.结果表明:采用单向加压依次渗入ZrB2微粉和酚醛树脂,能很好地将ZrB2微粉和树脂渗入到纤维束间,但熔融Si难以渗入到试样内部,复合材料的开气孔率和室温弯曲强度分别为18.3%和110MPa.采用ZrB2浆料真空浸渍,沉积碳基体后进行熔融渗Si,复合材料的开气孔率和室温弯曲强度分别为5.5%和230MPa. 相似文献
324.
界面相对3D-C/SiC复合材料热膨胀性能的影响 总被引:10,自引:0,他引:10
利用减压化学气相浸渗(LPCVI)技术制备了3D C/SiC复合材料,从热解碳(PyC)界面相厚度对界面结合强度和热应力的影响出发,研究了界面相对复合材料热膨胀性能的影响。结果表明:①界面相厚度对3D C/SiC复合材料热膨胀性能的影响主要归因于其对界面结合强度和脱黏面上的滑移阻力的影响。在一定厚度范围(约70~220nm)内,材料的热膨胀系数随热解碳厚度的增加而逐渐降低;②热处理可提高材料的热稳定性,并通过改变材料内部结构,使热应力重新分布,对复合材料的高温热膨胀产生显著影响,但是,并没有改变基体裂纹的愈合温度(900℃)。 相似文献
325.
326.
采用大气等离子喷涂方法在Q235低碳钢表面制备Mo2NiB2基金属陶瓷涂层,选取300 W和500 W功率对其进行激光重熔。结果表明,激光重熔可以显著减少涂层的缺陷,使组织结构变得更加致密,界面处的弱机械结合转变为良好的冶金结合。随着激光功率的提高,涂层的结合强度和耐腐蚀性能提高,最大结合强度为38.08 MPa,最小腐蚀电流为0.033μA/cm2,但硬度和耐磨性降低,最小硬度为1781HV0.2,最大体积摩擦率为6.25×10–5 mm3/(N·m)。上述等离子喷涂及2种激光重熔的Mo2NiB2基金属陶瓷涂层的硬度、结合强度、耐磨性和耐腐蚀性都明显高于Q235低碳钢基体。 相似文献
327.
邓琦林 《航空精密制造技术》1999,35(5)
分析了影响等离子喷涂成形的主要因素,试验研究了等离子喷涂层的结构和质量,给出了等离子喷涂成形的模具和用该模具制作的零件以及等离子喷涂成形的薄壁零件. 相似文献
328.
乌克兰巴顿焊接研究所 ,在喷涂技术方面已取得了多项突出成果 ,在航空发动机及火箭发动机的耐高温、耐冲刷部件上得到了广泛的应用。1 用超声速气流进行喷涂提高喷射速度是增强喷涂质量的方法之一。为此巴顿焊接研究所应用了超声速气流进行喷涂 ,并已研制了专门的喷涂设备。表 1为空气混合气等离子喷涂不同设备的性能比较。由表 1可见 ,利用超声速气流进行喷涂 ,尽管所需功率比用亚声速气流进行喷涂的功率大 ,但是其生产率则是亚声速的 2倍还多 ,涂层的性能也有大大改善 ,最大结合强度是亚声速的 4倍 ,而空隙率只有亚声速的 1 / 4。并且实… 相似文献
329.
330.
针对目前渗硼存在温度高、脆性大等一系列问题,对45钢进行气体低温氮硼共渗得到复合渗层,并对渗层进行金相组织观察、显微硬度测试,探讨了渗层的形成过程及渗剂中催渗剂尿素的作用。结果表明,通过合理的共渗工艺可以实现在软氮化的温度即540℃~660℃下强制渗硼,获得平均厚度为100μm较为平整的复合渗层,该渗层具有较高的硬度,最高可达995.6HV。 相似文献