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韩敏健 《西安航空技术高等专科学校学报》2000,18(1):18-20
以氮气为反应气体,用真空阴极电弧沉积法制备了CNx膜,对工艺参数对膜层的沉积速率,化学成份的影响及膜结合状态进行了研究,结果表明,沉积速率随着氮气分压的提高而下降,当氨气分压达到6.7Pa时将没有膜的沉积;CNx膜主要由碳和氮组成,降低真空系统的抽速,。将反应气体导至靶面附近,提高氮气分压可以提高膜层中氮含量;氮是以化合态存在于膜层中。 相似文献
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以甲烷(CH4)为碳源先驱体,以三维针刺碳纤维预制体为沉积基体,研究了化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)工艺过程中沉积时间、沉积压力以及预制体厚度对热解碳界面层沉积厚度的影响,并在此基础上优化了在碳纤维表面制备合适厚度的热解碳界面层所需的CVD工艺参数。结果表明,针对现有反应腔体,5 mm厚碳纤维预制体试样,采用1 000℃的沉积温度,CH4流速500 ml/min,沉积时间10 h,沉积压力5 kPa,可在预制体内外碳纤维表面沉积得到厚度合适的热解碳界面层;当碳纤维预制体厚度增至10 mm,则沉积时间应延长至15 h,压力维持不变,可沉积得到合适厚度的界面层。 相似文献
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