激波聚焦诱导气液两相爆震燃烧的数值模拟

对以激波聚焦和增加障碍物方式诱导煤油-空气气液两相爆震燃烧的过程进行了数值模拟.采用欧拉-拉格朗日方法建立了脉冲爆震发动机(PDE)中气液两相流的喷射、雾化、掺混过程.研究发现环形爆震波在爆震管凹腔内经过反射、汇聚后能够引燃可燃混合物.而在障碍物处,激波的反射和再反射聚焦能够形成高温高压点(2700K,25MPa),产生局部爆炸,有助于形成稳定的脉冲爆震燃烧(波面速度为1900m/s,温度为2 950K),有效地缩短由缓燃向爆震转变(DDT)距离至0.45m.     

脉冲随机微分系统的均方指数稳定性分析

研究了脉冲随机时滞微分泛函方程的均方指数稳定性问题。利用Lyapunov-Razumikhin型方法及随机分析的一些技巧,建立了一类脉冲随机泛函微分方程的均方指数稳定性定理。     

交会对接寻的段水平双脉冲交会轨道精确求解

基于考虑摄动影响的精确轨道动力学模型,对交会对接寻的段水平双脉冲交会轨道的精确求解方法进行了研究。提出了将控制脉冲的俯仰角近似转化为控制时刻的轨道幅角,从而调整脉冲控制时刻以消除径向速度增量的方法,精确求解首末水平双脉冲的启控时刻;引入导引终点位置偏差的比例控制方法,精确求解水平双脉冲的精确控制量。仿真结果表明,2轮整体迭代可获得首末水平脉冲控制时刻和控制量的精确值,脉冲水平特性达到俯仰角小于1°,导引终点相对位置精度达到10m,验证了该方法的正确性。     

弹道修正执行机构综述

二维弹道修正弹是一种低成本、高精度的精确打击弹药,修正机构是弹道修正弹上的重要部件,其性能决定了弹丸的弹道修正能力。针对弹道的二维修正需求,介绍了国内外对二维弹道修正弹修正机构的研究状况;列举了应用在二维弹道修正弹上不同类型的修正机构;阐述了不同类型修正机构的工作原理、特点以及各自的局限性。最后,对不同类型修正机构特性进行了比较,给出了相关技术指标,对比了各自的优缺点。阐述了选择和设计执行机构应注意的问题。     

力控制技术在飞机数字化装配中的应用

飞机数字化装配技术的发展要求提高装配自动化水平,工业机器人因此得到广泛使用,而工业机器人在定位精度与结构刚度上的局限性又催生了力控制技术的研究与发展.力控制技术不同于传统的位置控制,是利用安装在机器人上的传感器反馈力的数据,以此为依据驱动机器人将构件或工具送达最佳装配位置的技术.叙述了力控制技术的发展背景、基本原理、系统组成与应用实例,并对力控制技术在飞机数字化装配中的进一步发展作出了展望.     

降低PLC系统峰均比的低复杂度改进SLM算法

针对信道慢时变特性及噪声复杂的特点,提出了适用于低压电力线通信的降低峰均比的改进算法.改进算法对原始输入序列中的部分数据进行循环移位来获得一系列不同的新数据序列;在每个新数据序列尾部插入相应的边带信息组成一个输入候选序列;对这一系列不同的输入候选序列分别实施傅里叶反变换,得到不同的输出序列;从中选择峰均比最小的用于传输,达到降低系统峰均比的目的.结果表明:改进算法能够有效地降低系统的峰均比,并且能够获得更好的误码率性能,同时具有比传统选择性映射方法更低的计算复杂度.     

涡轮盘枞树形榫槽机夹拉刀设计

涡轮盘枞树形榫槽加工是涡轮盘加工的关键工序。完成榫槽加工的关键是榫槽的拉削工序,决定拉削工序的主要因素有机床、拉刀和夹具。拉刀的设计和制造质量是榫槽的拉削工序中最活跃的因素之一,也是拉削榫槽时加工涡轮盘榫槽厂家主要考虑的因素。     

多加速度计振动分离惯性补偿测力技术

为解决在高超声速脉冲风洞中进行大长细比等特殊模型测力实验所面临的惯性补偿问题,笔者提出了多加速度计振动分离惯性补偿方法。这一方法应用在长细比达20 :1 的模型气动力实验中,得到了较为理想的实验结果     

重复率电光调Q Nd^3＋：YAG激光器输出能量及激光器效？…

本文提出了一种在不同的泵浦电压下测量重复率电光调Ｑ掺钕钆铝石榴石激光器输出能量的方法，实际测量了脉冲激光器静态输出和动态输出能量，并利用电光晶体激光调Ｑ技术得到脉宽为亚毫微秒激光脉冲，使得激光器动脉输出功率达兆瓦量极。     

适用于全方位离子注入过程的脉冲调制器上升沿参数设计的研究

本课题建立了两种物理模型来描述理想脉冲情况下等离子体中的电子运动,并建立了电子运动方程.在无限长平面靶情况下首次得到了电子运动方程的解析解,提出了理想上升沿判据.通过对保形全方位离子注入的处理工艺参数的研究,获得了各个工艺参数之间的定标关系.研究结果表明,在相同的注入脉冲宽度情况下,增加等离子体密度和离子质量都能够获得更均匀的注入分布.注入波形的上升沿对注入离子能量分布造成的影响完全可以通过提高等离子体的密度和改变离子质量来消除.因此在设计调制器时追求过陡的上升沿意义不大,从技术难度和成本效益比上看,上升沿在1～2μs之间即可满足全方位离子注入过程对电源的要求.