化学镀金液中缓蚀剂A对镍层及镀金层性能影响的研究

向传统化学镀金液中添加一种含羟基和有机膦混合缓蚀剂A,研究了其对镍层的缓蚀作用、镀速、镀金层耐蚀性和镀金层附着力的影响.结果表明:镀金液中添加该缓蚀剂后,对沉积过程的镀速无较大影响.所得镀件镍层腐蚀深度从1.85μm降到接近0μm,缓蚀率接近100％.镀金液中随着缓蚀剂A添加量的增加,镀金层附着力明显提升,拉脱强度最大...     

大尺寸金刚石膜生长中等离子体弧源的稳定性

保持等离子体弧源稳定性对于制备大尺寸平面金刚石膜极其重要,故从理论和实验两个方面对等离子体弧源稳定性进行了分析。研究表明,为了保持弧源的稳定,必须在生长过程中,保持稳定的电子温度和均匀的活性原子及原子基团密度。金刚石膜在某些条件下长时间生长时,会发生阳极环积碳现象,导致等离子体弧源扰动失稳,从而引起生长的金刚石膜含有石墨杂质。通过预处理阳极环、控制碳源、加大氢气量等措施可保持弧源稳定。在此条件下生长金刚石膜,经SEM,Raman分析表明,其晶粒均匀、晶界清晰,仅有金刚石特征峰出现。     

化学镀镍—磷层的功能特性及其在工业上的应用

本文综述了化学镀镍-磷层的功能特性,包括耐蚀性,硬度、耐磨和抗磨损性,可焊性和导电性,电磁屏蔽性和工艺特性。文中对化学镀镍-磷层在工业上的应用做了简要介绍。     

航天器用镁合金高耐蚀化学镀镍层制备工艺研究

针对镁合金材料耐蚀性差,同时结合航天器电子结构产品对高导电的技术要求,采用碱性镀镍和酸性镀镍相结合的工艺方法,在AZ40M镁合金表面制备具有高耐蚀特性的Ni-P合金镀层。分别采用扫描电镜（Scanning electronic microscope,SEM）、能量色散谱（Energy dispersive spectroscopy,EDS）、X-射线衍射（X-ray diffraction,XRD）对镀层的微观形貌及相组成进行表征分析;采用动电位极化曲线及中性盐雾实验对镀层防腐蚀性能进行评价。实验结果表明：采用该工艺制备的Ni-P合金镀层为明显的非晶态结构,含磷量约为8%,属中磷镀层;当酸性镀镍时间达到60 min以上时,镀层自腐蚀电位在-0.55 V以上,中性盐雾实验48 h表面腐蚀,说明该镀层致密性好,具有优异的耐蚀性能,保证航天器镁合金电子结构产品在地面贮存、实验及空间应用的可靠性。     

热塑弹性体铝合金化学铣切保护涂料的研制

采用热塑性弹性体为基体材料制备不同配方的铝合金化学铣切保护涂料.实验包括涂料中酚醛树脂的合成,涂料的制备.所做涂料的性能考核包括外观、粘度、固体含量、抗张性、断裂伸长率、浸蚀比、致密性、剥离强度等.最后与美国同类产品性能对比.研究表明,自制的铝合金化学铣切保护涂料的涂膜透明均匀、剥离强度大小适中、耐强碱,满足化学铣切工艺要求,也基本上与美国同类产品性能相当.     

沉积位置对LPCVD SiC涂层微观结构的影响

采用低压化学气相沉积法( LPCVD)在炭纤维表面制备了SiC涂层,借助扫描电镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪对不同沉积位置SiC涂层的微观形貌和晶体结构进行了表征。 SEM结果表明,沿气流方向,涂层表面逐渐致密和均匀;SiC涂层为多层结构,这种多层结构的形成可能是由于反应中产生的HCl气体吸附在表面反应活性点,从而通过活性点的阻塞机制来阻止SiC晶粒的生长。 XRD结果表明,制备的涂层中存在自由碳,各位置处的SiC晶体在(111)晶面存在择优取向,且沿气流方向(111)晶面的取向性逐渐减弱,(220)和(311)晶面的取向性逐渐增加。拉曼光谱低段频谱(200~600 cm-1)的出现表明CVD涂层中存在一定的缺陷。     

新型钕铁硼永磁材料化学与热稳定性研究

钕铁硼永磁材料以其高磁性能、不易脆、价格低的优点逐渐成为第3代永磁材料,但其在热稳定性和化学稳定性方面的缺陷一直阻碍其在航天机电产品上的推广应用。文章针对钕铁硼永磁体的稳定性进行分析研究,并结合空间电机的应用实际成功解决了缺陷问题,为钕铁硼永磁材料在航天用永磁无刷直流电机上的广泛应用提供了参考。