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101.
粉末溅射平面薄膜型SnO2/CeO2酒敏元件   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了用粉末溅射做出的两种平面薄膜型酒敏元件的工艺、芯片结构和基本参数测试的结果.  相似文献   
102.
张骞  蔡建国  丁一凡  冯健 《航空学报》2018,39(Z1):722268-722268
基于薄膜结构模拟方式的对比分析,选用VUMAT子程序修改了考虑褶皱问题的膜单元的本构关系,解决了膜单元不能承受压应力的问题。采用三维数字图像相关(3D-DIC)方法对聚酰亚胺薄膜材料进行性能测试,试验表明带折痕的薄膜材料的等效模量比无折痕的薄膜材料低15%左右。在考虑折痕弹性模量差异的基础上采用显式计算方法对Miura折纸的展开过程进行了仿真,并基于平面度和最大应力2个指标对不同数量加载点的情况进行了对比,结果表明,加载点数量增多对结构的平面度和最大应力指标均是有利的。最后,基于薄膜结构找形和Miura折纸概念提出一种新的薄膜折叠方案。  相似文献   
103.
  总被引:1,自引:1,他引:0  
电磁定位系统(EM)凭借其精度高、反应灵活、操作简便、价格便宜以及无遮挡效应等优点,被广泛应用于各种需要进行跟踪定位的领域。在介入手术中,EM可以很好地解决因人体组织对介入器械的遮挡而无法进行精确光学定位的问题,能够对介入器械的位姿进行精确定位。但EM是通过电磁感应原理对介入器械进行跟踪定位,因此手术环境中存在的铁磁性物质产生的干扰磁场会导致EM的磁场产生畸变,从而影响其定位精度。对EM的定位原理进行了分析,通过分析EM受干扰前后传感器在相同位置的位姿变化,提出一种基于薄板样条函数的电磁定位系统校正方法,对EM受干扰后的位姿进行校正,并通过实验验证该方法的有效性。  相似文献   
104.
考虑横向剪切正交异性粘弹性薄板的蠕变屈曲   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了正交各向异性粘弹性薄板在单向受压时的蠕变屈曲问题,在建立控制方程时考虑了横向剪切的影响,通过求解控制方程得到了挠度随时间变化的解析表达式以及瞬时临界载荷和持久临界载荷。  相似文献   
105.
论述了多层薄膜光学的椭偏测量原理以及测量方法,采用导纳矩阵计算多层的椭偏参数;采用统计试验法与单纯形法相结合的数值逼近法进行反演计算。更重要的是本文首次提出迭椭偏测量法,使测量的重复性和精确度都大大提高。所谓选代椭偏测量法是不断地优选椭偏测量入射角,从而选出对核样品来说最佳椭偏测量入射角。用这种方法精确测量了相变光盘记录介质膜晶态下的光学常数,这对于相变光盘膜系结构优化设计很重要。  相似文献   
106.
建立开口薄壁杆约束扭转自由振动和强迫振动的微分方程并求得其通解,给出主振函数的表达式及常见支承条件下杆的频率方程,用广义函数讨论杆在不同形式载荷作用下的强迫振动响应。  相似文献   
107.
浅谈智能客户端及其应用   总被引:8,自引:0,他引:8  
传统的胖客户端充分利用客户端的资源,可以离线工作,但部署和更新很复杂.瘦客户端则以浏览器为基础,反应快捷,并易于部署和维护.但浏览器必须具有实时的网络连接.而智能客户端将胖客户端的功能和灵活性与瘦客户端的基于浏览器的易部署性和稳定性有机结合起来,摒弃了二者的不足.针对目前多数管理信息系统不能自动更新的弱点,提出了有效地进行客户端更新的方法.首先介绍了智能客户端的概念及特性,其次阐述了智能客户端较胖客户端和瘦客户端模式的优点,最后通过实例代码分析了智能客户端应用程序如何实现自动更新的功能.  相似文献   
108.
 本文采用通用于复合材料叠层厚、薄板壳的Heferosis三维退化曲壳元,利用Hill屈服准则和层状模型法,研制了针对金属基复合材料叠层板壳进行弹塑性分析的超参元程序。算例结果表明,叠层板壳分析方法和所编程序是可靠的,精度良好。  相似文献   
109.
陈霞  魏忠义 《航空计算技术》2006,36(3):68-70,74
介绍了一种网络化条件下能够通用于多种设备的的自动控制系统.该系统采用了蓝牙技术、异构数据库集成技术、瘦终端技术和CORBA技术等无线技术和网络技术,实现了自动控制系统与生产设备无关的特性,具有了传统的自动控制系统所不具有的通用性和超前性.首先介绍了通用自动控制系统设计的大致结构和技术基础;然后介绍了系统的构建和众多优点,最后对系统广阔的应用前景作了展望.  相似文献   
110.
本文采用自行设计PECVD的设备生长ZnO薄膜,以在等离子体作用下的CO2/H2作为氧源,Zn(C2H5)2为锌源,N2为载气,在Si(111)衬底上生长ZnO薄膜,衬底温度分别为400℃、450℃。使用原子力显微镜和带能谱的环境扫描电镜分析这两个ZnO薄膜样品的表面和断面组织形貌。实验结果表明,衬底温度直接影响薄膜的结晶质量。在衬底温度为450℃时生长薄膜样品,晶粒之间存在有规律的聚集,主要按六方环结构排布,比在衬底温度为400℃生长的薄膜的晶粒之间的聚集更有规律,这与XRD测试结果相吻合;薄膜的断面组织形貌图也进一步证实了在衬底温度为450℃时生长的ZnO薄膜,C轴高度择优取向。从薄膜的断面组织形貌图还可以看到,薄膜与单晶硅衬底之间界面几乎是一条直线,样品经过高温退火处理,薄膜未出现裂纹或卷起,说明薄膜与单晶硅之间存在一定的化学键合。  相似文献   
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