无污染的印制板光亮镀锡工艺浅析

概述了与裸铜复阻焊膜(SMOBC)印制板工艺相关的酸性光亮镀锡工艺及其应用效果,讨论了影响镀液稳定性的若干因素和添加剂的有关问题,指出了推广应用本工艺的重要意义。关键词:印制板酸性光亮镀锡锡铈合金     

航天器用热控薄膜材料激光打孔机的设计

文章介绍了航天器用热控镀铝薄膜材料的激光打孔设备研制,设备调试及应用,并介绍了镀铝薄膜材料打孔后的存放方法.     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文介绍了利用多弧--磁控溅射多功能离子镀膜设备在氮化钛掺金离子镀(IPG)方面的典型应用,并对复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍.     

离子注入铜薄膜后的氧化行为

为克服铜易氧化造成薄膜电阻增加、机械性能下降的缺点，采用离子注入技术对铜薄膜表面进行改性研究。离子注入后进行了氧化试验，并结合Ｘ射线衍射和卢瑟福背散射进行了分析。结果表明，离子注入对原有薄膜的电阻影响是很小的； 随注入剂量的增大，抗氧化能力提高；离子注入不但改善了铜薄膜的抗氧化能力，而且氧化行为及氧化层的结构也发生了变化，未经注入的铜薄膜形成的氧化铜以Ｃｕ２Ｏ为主，注入后氧化铜则为Ｃｕ２Ｏ 和ＣｕＯ 的复合结构。离子注入提高了铜薄膜抗氧化性能。     

碳纳米管在吸波材料中的研究与应用

碳纳米管是一种有前途的微波吸收剂,可以作为潜在的隐身材料、电磁屏蔽材料或暗室吸波材料使用.本文综述了近年来国内外通过碳纳米管碳化学镀改性、纳米管与聚合物共混、纳米管与铁磁材料杂化来制备微波吸收剂的研究成果和存在的问题,提出了碳纳米管作为吸波材料今后的发展方向.     

Ni-Co-P 化学镀工艺优化及性能研究

以A3钢为基底进行化学复合镀Ni-Co-P,采用正交试验法得到了一种Ni-Co-P的最佳配方及工艺条件,并对镀层的形貌、硬度、厚度、结合力、耐蚀性等进行了检测和分析。实验得出了最佳配方及工艺条件:硫酸镍35.0 g/L,硫酸钴4.0 g/L,次亚磷酸钠30.0 g/L,柠檬酸三钠60.0 g/L,硼酸35.0 g/L,乳酸12.0m L/L,十二烷基苯磺酸钠0.05 g/L,硫脲2 mg/L,p H值为7.0,温度90℃,施镀时间2 h。在该条件下,镀层沉积速率较快,可达89.83 g/(m2·h),镀层具有较强的耐蚀性,硫酸铜点滴时间可达285 s;该镀层表面分布均匀,孔隙率分布较小,与基体结合力较好。     

DZ125合金真空电弧镀沉积复合涂层技术

采用真空电弧镀技术(arc ion plating,AIP)在DZ125定向高温合金基体上制备60μm沉积-扩散型复合涂层(NiCrAlYSi+AlYSi)。通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射分析涂层的组织及结构,涂层外层形成大量的β-NiAl相,涂层中Al浓度自外向内逐渐降低,形成具有浓度梯度的复合涂层,有利于高温下涂层表面形成致密的Al2O3保护膜,提高表面保护膜的自愈能力。对沉积-扩散型复合涂层的试样进行1150℃抗氧化实验和900℃抗热腐蚀等实验,评价其抗氧化、抗腐蚀性能,对涂层氧化速率及腐蚀速率进行表征。结果表明:复合涂层明显改善了合金的抗高温氧化性能,承温能力明显提高,寿命延长。     

几种空间材料激光刻蚀的可行性研究

文章针对Kevlar／环氧蜂窝板热冲击试验中发现镀膜刻蚀栅条断裂的现象,提出改进蜂窝板表面状态的两种措施：（1）在Kevlar表面贴Tedlar薄膜;（2）在Kevlar表面贴胶膜。文章介绍了两种对激光吸收率不同的Tedlar膜和三种空间用胶膜材料在真空镀膜以后,用激光刻蚀后材料的微观表面状态、基体损伤等情况,最后得出这几种材料的激光刻蚀可行性结论。     

高体积分数SiCp/Al的化学镀镍

在进行无钯活化预处理后,对高体积分数SiCp/Al进行化学镀镍,研究了温度和pH值对镀层和沉积速度的影响。采用SEM观察镀层形貌,通过EDX测定镀层的镍磷含量,并用XRD分析了镀层的显微结构。结果表明:在特殊预处理后,采用化学镀镍,可在高体积分数SiCp/Al表面沉积上致密、均匀、结合牢固的镍镀层,镀层为微晶结构,属于中磷镀层。     

一种高散射率PIV实验用示踪粒子的制备

采用化学镀银的方法在空心玻璃微珠表面包覆一层金属银,使其表面具有足够高的光散射效率和合适的密度,作为示踪粒子用在PIV（Particle Image Velocime时）实验中。文中研究了相关化学镀银工艺参数对所制各示踪粒子密度的影响,并对所制各的示踪粒子进行了流场测试评价,结果表明：采用在空心玻璃微珠表面镀银的方法,可以获得性能优异的PIV实验用示踪粒子。