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221.
激光熔覆的研究发展状况 总被引:9,自引:0,他引:9
介绍了激光熔覆的机理;激光熔覆的工艺、组织性能(包括粉末加入方法、激光熔覆工艺、激光束及离焦量的选择、激光熔覆的组织性能等);激光熔覆的应用;激光熔覆存在的主要问题及解决的措施(包括覆层的冶金质量、熔覆层的开裂、裂纹、微观偏析与显微应力等)等各方面研究发展状况,指出了激光熔覆的今后发展方向(如激光熔覆过程中的应力应变动态产生过程、减少覆层一基材界面应力,开发梯度材料、解决与大功率激光器配套的系列装置及添加元素的熔覆方式和工艺稳定性问题等)。 相似文献
222.
223.
224.
表面粗糙度干涉图像处理系统 总被引:1,自引:2,他引:1
介绍了表面粗糙度干涉图像处理和该系统以静态干涉图像处理技术对表面粗糙度检测的过程。该系统通过对一帧白光干涉图像的处理,可对Ra值≤0.2μm的多刻线样板,试件表面粗糙度绝对、非接触、快速、自动地测量;该系统通过对白光和纳光二帧干涉图象的联合处理,以白光定位、纳光定度可对沟槽深度H≤5μm的标准单位刻线深度绝对,非接触,准确地测量。 相似文献
225.
电磁兼容设计中金属屏蔽镀(涂)层的选用 总被引:1,自引:0,他引:1
叙述了在电磁兼容设计中,在选用金属镀(涂)层作电磁屏蔽层时应考虑的因素。强调了屏蔽材料防气候环境条件腐蚀以确保电磁屏蔽性能长期可靠的重要性。分别介绍了针对各种材料制作的蜂窝屏蔽通风板、机壳、屏蔽网、垫片等电子仪器零部件选用的屏蔽镀(涂)层。 相似文献
226.
227.
228.
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230.