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非晶态Al83Y10Ni7(at%)合金晶化动力学 总被引:2,自引:0,他引:2
应用DSC技术研究了Al83Y10Ni7(at%)非晶合金晶化动力学。在恒加热速率晶化曲线上,随升温率在1~40K/min范围变化,分别出现3~4个放热峰。利用Kisinger法,Ozawa法和Arhenius法分别计算了晶化激活能,认为Al83Y10Ni7非晶合金在Al-Y-Ni系有较高的结构稳定性,晶化时第一个放热峰晶化相的等温晶化动力学在0.15<x<0.85范围内符合J-M-A方程,Avrami指数n=2.5;引用阶段Avrami指数和阶段激活能,研究了等温晶化过程中不同阶段的形核和长大行为 相似文献
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对于用射频溅射法制得的Fe_(83)B_(17)薄膜进行了平面霍耳效应的研究。实验表明:厚度大于800(?)的薄膜测量结果与导出的公式符合良好,且平面霍耳电压V_H的磁滞回线有轴对称性,但对较薄的膜则出现对公式的偏离并失去对称性。V_H的幅值可达500μV,开关临界磁场为22×10~(-4)T,晶化以后薄膜的V_H减小约一个数量级。利用平面霍耳效应测量了薄膜的静态磁特性。 相似文献
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在恒阴极电流上叠加一小振幅方波电流研究电沉积的生核过程,理论分析表明,由小幅度方波电流的电位-时间响应曲线可以表征原有恒电流下的电极特征;电沉积中产生的过电位特征峰是由于生核步骤迟缓所造成。实验结果证明:电沉积Ni-P合金初期形成非晶核所需能量比电沉积晶态Ni核要小得多。 相似文献
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DING Wen-ge YU Wei ZHANG Jiang-yong HAN Li FU Guang-sheng 《中国航空学报》2006,19(B12):173-178
The hydrogenated amorphous silicon nitride (SiNx) thin films embedded with nano-structural silicon were prepared and the micro- structures at the interface of silicon nano-grains/SiNx were identified by the optical absorption and Raman scattering measurements. Characterized by the exponential tail of optical absorption and the band-width of the Raman scattering TO mode, the disorder in the interface region increases with the gas flow ratio increasing. Besides, as reflected by the sub-gap absorption coefficients, the density of interface defect states decreases, which can be attributed to the structural mismatch in the interface region and also the changes of hydrogen content in the deposited films. Additional annealing treatment results in a significant increase of defects and degree of disorder, for which the hydrogen out-diffusion in the annealing process would be responsible. 相似文献
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本文选用了三种配方的镀液进行化学镀Ni—P的研究。确定出最佳镀液及施镀工艺参数,并对镀层的成分和结构进行了测定和分析。结果表明,镀层具有较高的硬度值(HV800~824),其中含磷量沿镀层纵、横两向分布基本均匀。 相似文献
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本文综述了近年来超高比强度非晶态铝基合金的最新研究结果,阐明其制备条件,生成组分,组织结构和强度特性,并对其开发前景进行了展望。 相似文献