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直接金属激光沉积(DMLD),又称激光净成形(LENS)、直接金属沉积(DMD)、直接激光沉积(DLD)、激光包覆以及粉末熔焊.其过程的实质是:用激光束在金属基体上形成一个熔池,将粉末送入熔池熔化并黏结在基体上形成沉积物.激光器以及粉末进给用的喷嘴均采用CNC机器手或龙门架式系统操作. 相似文献
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本文用化学沉积法和电化学沉积法制备太阳能电池用半导体薄膜硫化镉(CdS),对成膜的影响因素进行了测试。结果表明,化学沉积CdS质量较好,沉积速度较慢,受pH的影响较大,且水浴容器壁上沉积有大量的CdS膜。电化学沉积CdS的电流密度在0.5~2.5 m A/cm 2 的范围内,沉积速度快,材料消耗少,但是对电流密度过于敏感,成膜参数难以控制。 相似文献
73.
研究了制备工艺对微波等离子体CVD金刚石成膜质量的影响。详细讨论了基片在等离子体中的位置、基片台结构、N2等离子体预处理及启动条件对金刚石成膜均匀性的影响。提出了能获得均匀金刚石膜的制备工艺程序。 相似文献
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推进剂含金属填加剂的固体火箭发动机在工作过程中有时会发生喷管喉部沉积现象,可能对发动机性能带来严重的影响。本文根据有关实验现象,建立了喉部沉积过程的传热模型。假设喷管喉部结构由沉积层、耐熔喉衬、绝热衬套及外壳等导热性能不同的材料组成的,其中沉积层的厚度是随时间变化的,是多层壁变边界的不稳定传热问题。根据喉部沉积的传热模型建立了偏微分方程组,采用有限差分完全隐式格式用电算机进行数值分析计算。计算分析结果给出了喉部截面温度场及其变化规律,并从理论上预示有关因素对喉部沉积的影响,与实验规律一致。 相似文献
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