适应快速响应市场的快速成形技术

介绍了快速成形技术的产生背景、基本原理、工艺方法、成形材料、软件、应用以及发展趋势。     

均匀液滴喷射沉积模拟研究

以酒精为模拟对象 ,研究了振荡器输入电压、振动频率以及外压差等工艺参数对喷射沉积液滴流形态的影响。用Sn -Pb合金对均匀液滴发生装置进行了适应性研究 ,获得的金属球尺寸集中 ,铸锭组织均匀。     

Parylene—一种新型机载设备覆型防护涂层材料

介绍一种用于机载电子设备上的新型高分子材料Parylene的汽相成膜过程和优良的防护性能。     

喷射沉积工艺与快速凝固材料

喷射沉积作为一种新兴的快速凝固技术,被广泛用于研究和开发高性能快速凝固材料,近年来发展十分迅速。本文叙述了喷射沉积工艺的基本原理和主要特点,介绍了国外喷射沉积工艺的研究现状以及用这种工艺获得的各种快速凝固材料,并对喷射沉积工艺作了综合评价与展望。     

90年代的增材制造技术

介绍了９０年代出现的快速制造零件的“渐增材料制造法”，包括原理、特点及应用．着重介绍了几种比技成熟的具体工艺：立体印刷法、局部激光烧结法、立体底片固化法、三维印刷法、叠层制造法、熔融沉积造型法、循环掩模沉积工艺等．     

真空气相沉积装置的研制

叙述了航空发动机涡轮叶片表面防护渗层工艺和真空气相沉积装置的研制。     

（Ti,Al）N／W6Mo5Cr4V2膜基界面结构的透射电镜研究

在Ｗ＿６Ｍｏ＿５Ｃｒ＿４Ｖ＿２型高速钢表面沉积了新型（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ涂层，用透射电镜研究了（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ／Ｗ＿６Ｍｏ＿５Ｃｒ＿４Ｖ＿２膜基界面区结构。结果表明，其界面区有一过渡层，由α－Ｔｉ和ＦｅＴｉ相组成，且与基体之间有一定的位向关系。     

MPCVD法合成硼掺杂金刚石薄膜的次级发射性能

为解决电子倍增器、场发射阴极和粒子/光子探测器现有阴极材料次级发射系数低且发射不稳定的问题,对微波等离子体化学气相沉积（MicrowavePlasmaChemicalVaporDeposition,MPCVD）法结合H等离子体表面处理工艺制备的不同B₂H₆/CH₄浓度的硼掺杂金刚石薄膜的次级发射能力进行了研究。样品表面扫描电子显微镜和拉曼光谱分析结果显示,硼掺杂金刚石膜表面形貌与未掺杂的金刚石膜相似,样品表面均为高纯度的金刚石相。将置于空气中数日且未经任何表面处理的硼掺杂金刚石样品进行次级电子发射性能测试,结果显示一次电子入射能量为1keV时,得到高达18.3的二次电子发射系数。试验证实这种具有高二次电子发射系数的硼掺杂金刚石膜,暴露空气中由于表面氧化会破坏其表面的负电子亲和势,而真空中加热会使表面重新恢复负电子亲和势,这种负电子亲和势的完整保留,提高了该材料次级发射的稳定性,在器件中具有重要的应用前景。     

航空发动机整体叶盘维修解决方案

随着航空发动机结构设计的发展,整体叶盘和整体叶环等新结构在新型航空发动机中的应用越来越广.     

泡沫金属的制备方法及应用

介绍了多孔泡沫金属材料常用的传统制备方法(铸造法、发泡法、烧结法和沉积法)及具体应用。并提出了一种新型的泡沫金属制备方法——喷射电沉积法。