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171.
采用诱导磁场方程,Mixture混合两相流和磁场修正的湍流两方程模型,研究施加不同强度磁场时,收敛喷管内等离子体的流动和传热特性以及等离子体对尾喷流的包裹情况.结果表明,随着气流在收敛喷管内加速,等离子体被掺混的程度增加.增强磁场可提高近壁面处等离子体体积分数,抑制其湍流度,降低高温气体向喷管壁面的传热.当By=1.3T时,磁控等离子体可降低54.4%的壁面温升,增加0.74%的喷管推力系数,在出口4倍当量直径处对尾气仍有一定的包裹. 相似文献
172.
采用等离子喷涂工艺在GH4099合金基体上制备了热障涂层,并进行了1050℃恒温氧化试验,综合利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、能谱分析仪等检测手段,分析了涂层的显微结构及高温氧化行为。结果表明:等离子喷涂(APS)热障涂层在高温氧化过程中,黏结层被氧化生成热生长氧化物(TGO)。但长时间氧化后,在与TGO毗邻的金属黏结层中产生了范围较窄但浓度变化较大的贫Al带,TGO层出现保护性Al2O3向非保护性混合氧化物转变的现象,导致致密Al2O3层的连续性被破坏,TGO厚度快速增加。 相似文献
173.
174.
175.
176.
研究了等离子喷涂Cr3C2 NiCr涂层的气孔率服从正态分布、对数正态分布和韦伯分布的拟合优度。在统计分析的基础上 ,考察了喷枪移动速率和涂层厚度对涂层气孔率的影响。结果表明 ,在不同喷枪移动速率下喷涂不同厚度涂层 ,其气孔率均同时显著地服从正态分布、对数正态分布和韦伯分布 ,它们的变异系数在 0 .17~ 0 . 4 8,韦伯模数在 2 .0~ 6 . 2 ;根据不同分布估计出的平均值的置信区间基本相同。在相同的喷涂工艺参数条件下 ,厚度小于10 0 μm的涂层的气孔率较高 ;当涂层的厚度较厚时 ,涂层的气孔率为一常数。在 50 ,75和10 0m/min三种喷枪移动速率中 ,以 75m/min喷枪移动速率喷涂涂层的气孔率最低。 相似文献
177.
等离子体气动激励诱导空气流动的PIV研究 总被引:2,自引:0,他引:2
为了揭示等离子体气动激励与边界层相互作用的物理机制,作者进行了等离子体气动激励诱导空气流动的PIV研究。实验结果表明:毫秒、微秒等离子体气动激励诱导空气流动以“启动涡”和“壁面射流”的形式出现;当激励电压为12kV时,最大诱导速度约为3m/s;激励电压越大,“启动涡”和“壁面射流”的强度越大;脉冲激励的作用强度和作用范围要强于定常激励。该结论为提高等离子体流动控制的作用能力提供了指导。 相似文献
178.
179.
180.
变冲角条件下等离子体对扩压叶栅性能的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
进行了不同冲角、不同电压以及不同电极安装位置下等离子体对大折转角扩压叶栅性能的影响研究.结果表明,当冲角增大时,分离流动加剧是叶栅损失增加的主要原因,而端壁附面层内的摩擦损失则由于流向速度的减小反而减少;等离子体在三种工况下(i=0°,5°,-5°)均可有效控制栅内流动分离、减小叶栅损失、增加叶片负荷,电压越大、电极安装位置越接近分离起始位置,其控制效果越明显;随着冲角的增加,等离子体减小能量损失的效果减弱;虽然电极沿整个叶高方向布置,但等离子体仅对约10%叶高以上的损失影响较为明显,同一电压下该范围内各叶高处的损失减小量也基本相同. 相似文献