CVD金刚石薄膜表面抛光技术的研究

对CVD金刚石膜的离子束铣削、电子束加工、激光加工、化学辅助机械抛光、热化学抛光等抛光技术的加工方法与原理进行了介绍,分析了这些方法的优点和不足之处。并展望了CVD金刚石薄膜抛光技术的发展方向。     

石英半球谐振子力流变抛光

为提升石英半球谐振子抛光加工的效率及表面质量,对其内外表面进行了力流变抛光实验。利用力流变抛光液的剪切增稠特性,使流变流体柔性把持游离磨粒与工件表面相对运动实现材料去除,通过控制抛光液流场及界面剪切应力实现半球谐振子内外表面柔性、高效抛光。实验过程石英半球谐振子外表面采用浸入式抛光方法,抛光30 min表面粗糙度Ra从135.5 nm降至6.6 nm,内表面采用切入式抛光方法,抛光15 h表面粗糙度Ra从128.2 nm降至9 nm。实验结果证明了力流变抛光方法在石英半球谐振子抛光领域的应用潜力。     

非导磁不锈钢管材内外表面的磁力研磨

针对非导磁材料难以采用磁力研磨的问题,本文研制了特定的磁路,磁极表面场强达8kGOs以上,并成功地对3mm壁厚的不锈钢管材的内外表面进行了磁力研磨,尤其是外表面磁力研磨后表面粗糙度达0.06μm。     

控制力超精密研抛测控系统

简要介绍超精密抛光技术的发展动态,围绕精密研抛机的现有加工技术水平,开发可实现超精密抛光的控制力系统.     

电磁抛光装置的结构设计及特性研究

介绍了五轴联动磁流变抛光系统中的关键部件———公自转电磁抛光轮的结构设计进行了详细阐述,创造性的将电刷供电方式应用于该新型抛光轮的结构中。设计并开发了直流供电及交流供电两种驱动电源,并开展了抛光去除特性试验研究,对磁流变抛光过程中的主要控制参量直流线圈电压大小对被抛光工件表面材料去除特性的影响进行了研究。     

光学材料的浅低温抛光方法

介绍了光学材料的浅低温抛光方法,首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,然后进行抛光实验。实验结果表明,这是一种很好的抛光方法．     

KDP晶体的磁流变抛光研究

针对KDP晶体溶于水,易潮解的特点,配制了适用于KDP晶体抛光的磁流变抛光液,测试了其性能,并对KDP晶体进行了初步的抛光实验,结果表明该磁流变抛光液性能较好,实现了KDP晶体的磁流变抛光。     

脆硬材料光滑表面的波纹度及其产生机制初探

分析了通过不同方法加工获得的表同的波纹度,初步探索了波纹度产生的原因,并提出了减小抛光中波纹度的方案。     

定偏心锡磨盘超精密抛光均匀去除模拟计算

通过对被研磨工件与锡磨盘相对运动轨迹方程的建立、模拟和计算,从理论上分析了影响获得超光滑金属表面（Ｒａ０５ｎｍ）的重要因素,以及如何选择运动参数。     

铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究

用充电曲线——拉普拉斯变换方法获得了抛光液中不同成份在80℃,90℃下的交流阻抗频谱图,配合失重腐蚀速度数据,研究了光亮剂对双电层结构的影响。揭示了在抛光过程中光亮剂通过吸附、沉积、扩散步骤达到试样表面整平、光亮效果。