控制力超精密研抛测控系统

简要介绍超精密抛光技术的发展动态,围绕精密研抛机的现有加工技术水平,开发可实现超精密抛光的控制力系统.     

加砂切割工艺参数优化

根据了加砂切割工艺的特点,通过工艺参数实验,对各种参数对切割质量的影响进行了系统分析。     

电磁抛光装置的结构设计及特性研究

介绍了五轴联动磁流变抛光系统中的关键部件———公自转电磁抛光轮的结构设计进行了详细阐述,创造性的将电刷供电方式应用于该新型抛光轮的结构中。设计并开发了直流供电及交流供电两种驱动电源,并开展了抛光去除特性试验研究,对磁流变抛光过程中的主要控制参量直流线圈电压大小对被抛光工件表面材料去除特性的影响进行了研究。     

光学材料的浅低温抛光方法

介绍了光学材料的浅低温抛光方法,首先把抛光液冷冻成低温抛光模层,然后进行抛光实验。实验结果表明,这是一种很好的抛光方法．     

氩气保护条件下钎焊单层金刚石砂轮的研究

 利用氩气作为保护气体,以 Ni-Cr合金粉末做钎料,适当控制钎焊温度、保温时间和冷却速度,实现了金刚石与钢基体的牢固的化学冶金结合。利用扫描电镜和 X射线能谱,结合 X射线衍射结构分析,发现在钎焊过程中 Ni-Cr合金中的 Cr元素分离在金刚石界面形成富 Cr层并与金刚石表面的 C元素反应生成Cr₃C₂ 和 Cr₇C₃,在钢基体结合界面上 Ni-Cr合金和钢基体中的元素相互扩散形成冶金结合,这是实现合金层与金刚石及钢基体之间都有较高结合强度的主要因素。并通过重负荷磨削实验进行验证取得较好的结果。     

KDP晶体的磁流变抛光研究

针对KDP晶体溶于水,易潮解的特点,配制了适用于KDP晶体抛光的磁流变抛光液,测试了其性能,并对KDP晶体进行了初步的抛光实验,结果表明该磁流变抛光液性能较好,实现了KDP晶体的磁流变抛光。     

含润滑相的超音速喷涂WC复合涂层性能研究

采用超音速火焰喷涂方法,以传统粉末WC-10Co-4Cr为基体,添加MoS2制备WC-10Co-4Cr/MoS2自润滑复合涂层;利用SEM和XRD对比分析了添加不同含量MoS2的涂层微观组织结构和物相;重点进行了磨粒磨损实验,研究MoS2对超音速喷涂WC涂层摩擦学特性的影响机理;测试了其显微硬度。结果表明:引入的MoS2少部分转化成新态,其余则进入WC涂层空隙中,其显微硬度与未添加MoS2涂层相比略有降低;相同试验条件下,含MoS2涂层有效地降低了磨粒磨损质量损失,提高了涂层的耐磨性;WC-10Co-4Cr/MoS2复合涂层具有很好的自润滑性,MoS2质量百分含量为15%时WC-10Co-4Cr/MoS2复合涂层的摩粒磨损性能最佳。     

脆硬材料光滑表面的波纹度及其产生机制初探

分析了通过不同方法加工获得的表同的波纹度,初步探索了波纹度产生的原因,并提出了减小抛光中波纹度的方案。     

定偏心锡磨盘超精密抛光均匀去除模拟计算

通过对被研磨工件与锡磨盘相对运动轨迹方程的建立、模拟和计算,从理论上分析了影响获得超光滑金属表面（Ｒａ０５ｎｍ）的重要因素,以及如何选择运动参数。     

铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究

用充电曲线——拉普拉斯变换方法获得了抛光液中不同成份在80℃,90℃下的交流阻抗频谱图,配合失重腐蚀速度数据,研究了光亮剂对双电层结构的影响。揭示了在抛光过程中光亮剂通过吸附、沉积、扩散步骤达到试样表面整平、光亮效果。