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91.
针对一种复杂结构薄壁件的结构特点和加工精度要求,在磁流变抛光原理的基础上,设计了小直径永磁球头的加工工艺。本文详细分析了工件的磁流变抛光工艺要求,并在此基础上确立了工件的小直径永磁球头磁流变抛光加工方法。通过自行研制的磁流变抛光机床对工件进行加工验证实验,经过加工工件的表面粗糙度由645.8nm减小到18.7nm,表明了采用小直径永磁球头磁流变抛光方法对工件进行抛光,可以得到较好抛光表面质量,达到了工件的精度要求,进而验证了该方法的正确性。 相似文献
92.
申儒林 《航空精密制造技术》2006,42(2):56-59
根据硬盘磁头加工的特点,分析了抛光机的运动学特性及抛光盘、抛光液、磨粒在抛光过程中的摩擦学行为等对磁头表面质量的影响。 相似文献
93.
94.
激光陀螺超光滑反射镜基片的光学加工和检测技术 总被引:6,自引:1,他引:6
讨论了激光陀螺超光滑光学反射镜基片的加工和检测技术,并给出了超光滑光学基片的非接触光学测量仪和原子力显微镜的测试图。还论述了原子力显微镜测试的准确性以及超光滑光学表面的分形特征。 相似文献
95.
叶片最终成形一直是航空发动机制造中的瓶颈技术,叶片自动化抛光技术研究可以解决国内叶片主要依靠手工抛光所带来的一系列问题。本文对砂轮磨削、砂带磨削的工艺特点进行了介绍,并结合国内外抛光技术现状,针对叶片抛光的技术难点,总结出了叶片抛光技术的发展趋势,给叶片抛光技术从业人员指出了一个研究方向。 相似文献
96.
97.
双面抛光加工运动过程分析与数学模型的建立 总被引:7,自引:0,他引:7
晶片在双面抛光加工过程中具有多向运动、受力复杂、表面材料微细去除的特征,晶片的运动和受力是影响双面抛光加工质量的主要因素。本文通过分析双面抛光加工时晶片的运动规律和受力状态,建立了双面抛光加工时晶片运动的数学模型。研究结果表明,晶片的运动是行星运动和自转运动的合成,当晶片质量和惯性矩较小并可以忽略时,晶片的自转速度与抛光压力、抛光垫和晶片表面间的摩擦状态无关,而与行星轮和晶片端面间的摩擦状态、行星轮系统运动参数和抛光盘转速有关。 相似文献
98.
99.
利用计算流体力学软件Fluent对纳米颗粒射流超光滑加工的流场分布特点进行了流体动力学分析。基于仿真结果对去除函数的变化规律进行了研究,通过具体实验来对流体动力学仿真结果进行了验证。搭建了纳米射流抛光装置,利用该装置对熔石英元件进行了加工。原子力显微镜观测结果表明熔石英元件表面粗糙度RMS值由初始的0.680nm减小到了0.307nm,实现了超光滑加工。 相似文献
100.
针对环形气囊抛光光学元件表面时产生的抛光非均匀性现象,简要介绍了环形气囊抛光技术的运动方式和实验平台的主要组成部分。介绍了环形气囊的抛光机理,基于Preston方程,分析了抛光非均匀现象产生的原因和解决途径,通过调整环形气囊抛光头与工件之间的相对运动方式和调整环形气囊抛光头与工件之间的相对位置等两种方法,消除了工件中心抛光效果差的现象,实现了工件表面的均匀性抛光。 相似文献