稀土元素及杂质在铝锂合金中的作用研究现状与发展

 综述了稀土元素和杂质对铝锂合金微观组织及力学性能的作用,概括了杂质致脆及稀土微合金化的规律与机制,根据已有研究结果,对目前铝锂合金的发展与应用中需要引起重视的问题,提出了某些观点与建议。     

钛合金切削挤压复合攻丝研究

将切削挤压复合攻丝新方法成功地用于高强度钛合金内螺纹的加工,这种方法不仅可以减小挤压扭矩而且能够强化螺纹根部。加工的挤压螺纹表面有一层纤维沿其牙形连续分布。利用云纹干涉法测得牙根处的最大残余压应力为120MPa左右。疲劳对比试验结果表明,在相同应力水平下,经挤压强化螺纹的疲劳寿命大约是未强化螺纹的３倍,这主要归因于挤压螺纹表面高的残余压应力,高的纤维密度和低的粗糙度。     

激光冲击处理对铝合金疲劳扩展速率影响的研究

研究了激光冲击处理对2024-T62铝合金疲劳裂纹扩展速率的影响,并探讨了将其作为止裂工艺的可行性。疲劳裂纹扩展试验结果表明：激光冲击处理可以显着地降低疲劳裂纹扩展速率,作为止裂工艺是可行的。     

锌基合金冲模的应用

本文通过典型冲件介绍了锌基合金的成分、机械性能、锌基合金冲模工艺过程,技术经济效益以及提高锌基合金冲模的浇铸质量的几点措施。     

高速永磁电机综合设计与分析

高速非晶合金永磁电机设计受电磁、机械、温升的制约,因此高速非晶合金永磁电机的设计是一个多物理场综合设计的过程。针对高速非晶合金永磁电机设计受多物理场制约的问题,基于多物理场的分析方法,分析了非晶合金材料对高速永磁电机电磁性能的影响;研究了内置式永磁转子在高速运行状态下的应力分布,并分析了轴承支撑刚度对转子系统临界转速的影响;针对高速非晶合金永磁电机损耗分布特点研究了其温度场的分布。基于提出的多物理场综合设计方法,设计并制造了一台额定功率15 kW、最高转速30 000 r/min的高速内置式非晶合金永磁电机,并对样机进行了试验,验证了仿真分析与设计方法的可行性,为高速非晶合金永磁电机的设计提供参考。     

铣削参数对7055-T6铝合金耐腐蚀性的影响

文摘研究了铣削工艺参数对切削力、表面粗糙度、轮廓与形貌、自腐蚀电位和电流密度的影响。结果表明:随着切削速度的增大,切削力与表面粗糙度呈现先增大后减小再增大的变化规律;随着轴向切深的增加,切削力与表面粗糙度都呈增大的趋势;铣削后刀面对已加工表面的挤压改善了铝合金的腐蚀性能;切削转速为4 000 r/min,轴向切深为0.25 mm时,加工表面耐腐蚀性能最优;在较大的轴向切深下,已加工表面易产生微裂纹,而导致腐蚀加剧。     

关于先进战斗机结构制造用钛概述

先进战斗机结构制造用金属材料主要包括铝合金、钢铁材料以及钛合金,而钛合金由于兼顾了钢的高强度与铝的低密度以及具有耐腐蚀等优点,在世界各国的新一代武器装备结构选材中越来越受到重视和广泛应用,特别是在先进战斗机的结构制造中尤为如此。对美国、俄罗斯以及我国第三代战斗机与F-22等新一代战斗机结构制造用钛情况进行了汇总阐述,特别是针对美国战斗机的钛合金设计选用思路及热制造成形工艺进行了分析讨论。     

钛合金耳片的静载失效分析与结构优化研究

钛合金因比强度高、耐蚀性好、耐热性高等特点被广泛应用于航空、航天、舰船等领域。飞机在襟翼滑轮架侧板、铰链接头、基座等结构部位采用钛合金零件,其中部分零件涉及耳片连接结构。为了对钛合金耳片进行强度分析和结构优化,开展了不同尺寸钛合金耳片的静载试验研究。揭示了钛合金耳片几何尺寸与加载角度对破坏载荷的影响规律;计算获得轴向加载效率系数K_0与角度加载效率系数K_(con1);对典型断口进行了形貌观察,探讨了钛合金耳片在室温静载荷作用下的破坏机制。     

多孔NiCr在750℃ NaCl沉积盐中的热腐蚀机理研究

针对飞机发动机高压压气机NiCr系可磨耗封严涂层发生的NaCl热沉积盐高温腐蚀现象,采用粉末烧结法制备了多孔80Ni20Cr合金,研究了其在750℃空气气氛中的NaCl热腐蚀行为。采用X射线衍射和能谱分析等技术对腐蚀产物进行了分析。结果表明,NaCl固体盐通过阻碍合金表面生成连续致密的Cr_2O_3,加速多孔NiCr的腐蚀和氧化。研究发现,在样品外表面形成的Cr_2O_3、NiO、NiCr_2O_4混合氧化物膜易开裂剥落,是合金加速腐蚀的主要方式。此外,通过同步热分析并结合热力学模拟计算发现,NiCr合金的热腐蚀由氯化-氧化协同控制,初始依靠NaCl与Cr元素反应引发合金的循环腐蚀,并推动整个腐蚀过程不断进行。     

Analysis of the current density characteristics in through-mask electrochemical micromachining (TMEMM) for fabrication of micro-hole arrays on invar alloy film

Invar alloy consisting of 64% iron and 36% nickel has been widely used for the production of shadow masks for organic light emitting diodes(OLEDs) because of its low thermal expansion coefficient(1.86 ? 10à6cm/°C).To fabricate micro-hole arrays on 30 lm invar alloy film,through-mask electrochemical micromachining(TMEMM) was developed and combined with a portion of the photolithography etching process.For precise hole shapes,patterned photoresist(PR) film was applied as an insulating mask.To investigate the relationship between the current density and the material removal rate,the principle of the electrochemical machining was studied with a focus on the equation.The finite element method(FEM) was used to verify the influence of each parameter on the current density on the invar alloy film surface.The parameters considered were the thickness of the PR mask,inter-electrode gap(IEG),and electrolyte concentration.Design of experiments(DOE) was used to figure out the contribution of each parameter.A simulation was conducted with varying parameters to figure out their relationships with the current density.Optimization was conducted to select the suitable conditions.An experiment was carried out to verify the simulation results.It was possible to fabricate micro-hole arrays on invar alloy film using TMEMM,which is a promising method that can be applied to fabrications of OLEDs shadow masks.