大尺寸金刚石膜生长中等离子体弧源的稳定性

保持等离子体弧源稳定性对于制备大尺寸平面金刚石膜极其重要,故从理论和实验两个方面对等离子体弧源稳定性进行了分析。研究表明,为了保持弧源的稳定,必须在生长过程中,保持稳定的电子温度和均匀的活性原子及原子基团密度。金刚石膜在某些条件下长时间生长时,会发生阳极环积碳现象,导致等离子体弧源扰动失稳,从而引起生长的金刚石膜含有石墨杂质。通过预处理阳极环、控制碳源、加大氢气量等措施可保持弧源稳定。在此条件下生长金刚石膜,经SEM,Raman分析表明,其晶粒均匀、晶界清晰,仅有金刚石特征峰出现。     

PECVD法生长纳米硅薄膜的压敏特性

使用常规的ＰＥＣＶＤ（等离子体增强化学汽相沉积）沉积技术成功地制备出具有纳米相结构的硅薄膜，并研究了以玻璃和单晶硅为衬底材料的纳米硅薄膜的压阻特性，测得两种衬底材料制备的样品均有很高的压力灵敏度系数Ｋ，其值可以达到８０，退火后Ｋ值会增加，电阻随压力呈良好的线性关系，但有较大滞后，并对样品的受力情况及测试结果进行了简单的分析。本文对ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ薄膜力敏器件的设计和制造将有重要的参考价值。     

主电桥预移相模型恒温热线(膜)流速计动态响应方程的解析解

对主电桥预移相恒温热线(膜)流速计动态响应方程调节元参量的解析解,及利用本线路模型理论,设计新型 HWFA 的若干原则作了阐述。根据这些原则研制的IFA-900型智能流速计系统,革除了传统 HWFA 所必需的三个调节参量,使用简单,操作方便;频带宽,稳定性好,动态性能有重大改进;软件功能强,智能化功能多,自动化程度有很大提高。     

无膜激波管的研制与调试

在比较和分析现有的无膜激波管之后，设计了以活塞控制驱动的无膜激波管，进行了理论分析、结构设计、工程估算等方面的工作，最后进行调试并给出了调试结果。     

用于PolyStrata技术的光刻工艺探索研究

在高集成的射频微机电系统RF MEMS（Radio Frequency Micro Electro Mechanical System）器件的发展趋势下，三维集成工艺的研究越来越多。基于PolyStrata技术的三维多层堆叠同轴器件以其无色散、低损耗、超宽带的优势脱颖而出，PolyStrata技术使用紫外厚胶作为牺牲材料，对光刻胶粘附性、精度、工艺兼容及释放性能要求高，常规厚胶难以满足。探索A、B两种紫外光刻厚胶，对两者工艺参数及图形质量进行对比研究。结果表明，光刻胶A厚度均匀性为98.6%，图形偏差小于10μm；光刻胶B图形偏差小于5μm，但均匀性较差，约80.4%。     

航空航天用热固性二硫化钼干膜润滑剂的研制

采用酸酐、601和618混合环氧树脂、胶体二硫化钼及特殊溶剂和添加剂等制备成的热固性二硫化钼干膜润滑剂,涂层经200℃、固化2h后形成了润滑减摩层。结果表明,其膜层不仅附着力、防腐性、耐高低温性及耐液体介质性好,而且在热真空环境下工作性能稳定、摩擦系数低、耐磨寿命长。     

动态湿润与动态接触角的实验

利用精密步进电机、高速CCD图像采集系统、立体显微镜,采用液槽法测试硅酮油在玻璃、铝、不锈钢表面上的动态湿润行为。实验结果与前驱膜模型对比表明,无量纲参数λ在玻璃、铝和不锈钢表面上分别取值0.07,0.16和0.35时,二者吻合较好,表明动态接触角不仅是静接触角和毛细数的函数,也和固体表面性质有关。实验同时发现,对于低毛细数下成立的Hoffman-Voinov-Tanner定律(Cazabat推荐适用于CaD<1或θD<10°),直到动态接触角达到70°依然成立,用前驱膜模型可给出合理解释。      

纳米碳在电发热膜中的应用研究

纳米碳具有优良电学性能，用其制作的电发热膜材料具有极高的电热转换率(比传统电热膜材料节电30％以上，比普通金属丝发热材料节电60％-80％)，发热快，能产生对人体有益的远红外线，使用寿命长等特点，用这种电热膜材料制成低压电热毯、电暖器等产品，取得了极好的效果。     

金属表面绿色环保自组装防腐膜的研究进展

自组装膜技术在金属表面防腐中的应用越来越广泛,采用简单有效的膜技术制备绿色环保膜产品已成为防腐膜领域的研究热点。本文综述近年来金属表面自组装膜制备技术的研究进展,分别阐述了金属表面自组装单层膜和复合膜在铝/铝合金、铜/铜合金、不锈钢和其他活泼金属表面自组装膜技术的分类、特点和应用、防腐机理等,指出膜与基体之间的界面结合、成膜机理、防腐机理等方面的研究还不够完善,仍然是亟待解决的科学问题。     

产品动态

传感膜，研磨水喷射工艺，剪式升降机，奥林巴斯超声波探伤仪，数据链气象收发机，WypAll一次性抹布。