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691.
对氧化铟锡(ITO)薄膜在光学太阳反射镜(OSR)抗静电放电设计中的应用进行了研究,采用Drude理论分析了ITO薄膜的表面方阻等对OSR的太阳光谱吸收比的影响,测试了光学太阳反射镜充电电位,讨论了薄膜接地状况对OSR表面充放电性能的影响,结果表明,ITO薄膜应用于OSR表面防静电放电时,需合理设计表面方阻和接地方式。 相似文献
692.
693.
694.
695.
本文给出了V形壁面热膜测量物面摩擦应力的方法研究。实验表明该技术对三维湍流边界层中的摩阻测量是一类有效的方法。从本实验的数据可以看到,壁面热膜在二维湍流边界层中得到的校测函数能够直接用于三维湍流边界层的摩擦应力测量。 相似文献
696.
利用粉末冶金方法置备了Co90Fe10靶材,用X射线能量损失谱(EDX)分析靶材成分,并利用X射线衍射分析靶材的结构。CoFe薄膜在优于5.5×10-4Pa的本底真空度下室温沉积在热氧化Si基片上,样品在3×10-5Pa真空度下分别进行了450℃和500℃的60min退火处理。用EDX和俄歇电子能谱分别分析了靶材和薄膜的成分中Co,Fe的比例。X射线衍射发现沉积在热氧化Si基片上的CoFe膜(111)晶面面间距明显小于靶材相应晶面面间距,退火处理使膜(111)晶面面间距明显增大,趋向靶材面间距。磁阻特性测量表明室温沉积的薄膜磁电阻经450℃和500℃退火后得到非常明显改善。 相似文献
697.
飞机外挂物投放低速风洞试验技术研究 总被引:4,自引:1,他引:4
张召明 《南京航空航天大学学报》2003,35(3):318-321
采用动力相似法对飞机外挂物投放风洞试验技术进行研究,总结了试验中的关键技术。介绍了投放模型的设计加工、试验设备、试验过程及试验结果的后期处理的情况。首次采用了先进的高速数码摄像系统对外挂物投放轨迹进行拍摄研究和判读,运用多次曝光技术,试验照片清晰,试验结果符合规律,取得了很好的效果。 相似文献
698.
挤压油膜阻尼器支承的转子系统的非线性振动 总被引:2,自引:0,他引:2
分析了一个3质量转子一阻尼器系统的非线性振动特性。该系统是由一个带对中弹簧的挤压油膜阻尼器支承的。研究表明,当不平衡或供油压力或挤压油膜阻尼器的静偏心比增大时.由于油膜力的非线性特性,将引起施加在系统上的阻尼增大。相应地,阻尼的这一增大引起了系统共振位置的大幅值漂移。在设计阶段,必须等虑这一因素以适当地选择参数。实验结果验证了分析结果。 相似文献
699.
700.
SHAN Ying-chun HE Xiao-dong LI Ming-wei LI Yao XU Jiu-jun 《中国航空学报》2006,19(B12):86-90
The 2D kinetic Monte Carlo (KMC) simulation was used to study the effects of different substrate temperatures on the microstructure of Ni-Cr films in the process of deposition by the electron beam physical vapor deposition (EB-PVD). In the KMC model, substrate was assumed to be a "surface" of tight-packed rows, and the simulation includes two phenomena: adatom-surface collision and adatom diffusion. While the interaction between atoms was described by the embedded atom method, the jumping energy was calculated by the molecular static (MS) calculation. The initial location of the adatom was defined by the Momentum Scheme. The results reveal that there exists a critical substrate temperature which means that the lowest packing density and the highest surface roughness structure will be achieved when the temperature is lower than the smaller critical value, while the roughness of both surfaces and the void contents keep decreasing with the substrate temperature increasing until it reaches the higher critical value. The results also indicate that the critical substrate temperature rises as the deposition rate increases. 相似文献