烧结永磁材料NdFeB表面中温化学镀层的形貌与性能

永磁材料NdFeB因超高的磁性和低廉的价格,成为现代电子信息产业的重要材料,但由于耐蚀性较差而影响其使用寿命。本文通过研究永磁体表面中温化学镀工艺来提高其耐蚀性能,改变镀液的主盐浓度、温度和pH值,获得了理想的中温化学镀工艺为:硫酸镍35g/L,次亚磷酸钠30g/L,乙酸钠30g/L,氟化钠2g/L,酒石酸40 g/L,pH为6.5,温度70℃。在此工艺下,获得的表面镀层覆盖完整、镀层的胞体致密且大小均匀,表面无明显缺陷;化学镀镀层厚度均匀,镀速为19.80μm/h,符合工业生产要求;化学镀使永磁体表面硬度和耐蚀性均得到了提高,在上述工艺下,表面硬度由450Hv提高到610Hv,腐蚀电流密度由0.30A/cm~2降低到0.8×10~(-6)A/cm~2。     

基于CCD和光栅尺的布氏硬度测量装置

将CCD和光栅尺同时应用于布氏硬度压痕测量,试验证明：系统测量结果基本不受CCD对焦及照明光强变化的影响;测量准确度容易保证,重复性好,自动化程度及效率较高,同时大大缓解了布氏硬度测量中的视觉疲劳。     

电参数对 7075铝合金微弧氧化膜硬度的影响

通过使用直流双脉冲电源对 7075铝合金进行微弧氧化试验,研究了正向电压、占空比和脉冲频率等电参数对铝合金微弧氧化膜层硬度的影响。通过正交试验,研究了单一水平因素下的膜层硬度平均值的变化规律,发现了通过电参数提升膜层硬度的方法;通过相对极差分析,发现正向电压对膜层影响程度最大,脉冲频率对膜层影响程度最小。提出了针对 7075铝合金微弧氧化膜硬度提升的电参数优化方案:提升氧化膜硬度,应优先考虑增大正向电压;保证氧化膜硬度的同时兼顾其他表面性能,应优先调整对膜层硬度影响最小的脉冲频率。     

某机高压涡轮轴氮化试验分析

针对某机高压涡轮轴在加工过程中出现的局部漏渗问题，通过渗层深度、冲击韧性、表面硬度等试验，找出了挽救该零件的最佳方案，填补了公司在零件局部氮化方面的空白。     

通氨滴醇软氮化工艺试验

介绍了通氨滴醇气体软氮化工艺的试验过程,并在分析试验结果的基础上确定了最佳软氮化工艺条件.     

膜层厚比对CrN_x/Ti_yCr_(1-y)N多层膜硬度与结合力影响研究

为研究膜层交替周期对多层膜表面硬度与耐磨性能的影响,利用金属蒸发真空弧离子源(MEVVA)和磁过滤阴极真空弧复合离子束沉积技术在AM355钢材表面制备膜层交替周期分别为5、13和26的3组CrN_x/Ti_yCr_(1-y)N膜层,利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和X射线衍射仪(XRD)对膜层形貌和相结构进行了分析,利用划痕仪、显微硬度计等对膜层硬度与结合力进行了测试。结果表明:采用该技术制备的CrN_x/Ti_yCr_(1-y)N多层膜结构致密,与基体结合良好;随着多层膜交替周期的增加,膜层硬度有所降低,膜层结合力则呈现先升高后缓慢降低的趋势。     

新型损伤容限钛合金高速铣削表面完整性分析(英文)

研究新型损伤容限钛合金TC21在不同的刀具磨损状态下,采用高速铣削与常规铣削的加工表面完整性,重点研究表面粗糙度、加工硬化层、金相组织等因素对表面完整性的影响。结果表明,高速铣削能够获得良好的表面质量并提高加工的效率,同时通过观察加工硬化层与金相组织可以发现,即使是刀具在严重磨损的状态下,也不会出现比较严重的加工硬化现象。     

纯铜表面金属Ni、Ti离子注入的结构与性能研究

采用金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源引出的强流Ni和Ti离子束对纯铜进行了离子注入表面改性试验研究.材料表面的力学性能测试表明采用Ti或者Ni离子注入后纯铜材料表面的硬度和耐磨性均有提高.对注入层的结构分析表明金属离子注入后,在纯铜表面注入层出现了合金相及重结晶,显微组织的改变是材料表面硬度和耐磨性提高的主要因素.     

材料表面薄膜硬度的测试计算

给出了基于纳米硬度试验的表层薄膜的硬度测算方法。首先研究如何利用有限元计算弥补纳米硬度测量在压痕深度小于百纳米时的精度缺陷，进而探讨薄膜一基体材料系统的硬度随压痕深度变化的规律，最后导出了根据实验曲线预测表层薄膜材料的硬度的公式，并进行了实验验证。     

应变速率对MP159合金组织性能的影响

分析了应变速率对ＭＰ１５９合金组织性能的影响规律,为该合金热成形正确选择变形速率提供了理论依据。