首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   2028篇
  免费   301篇
  国内免费   188篇
航空   1493篇
航天技术   335篇
综合类   164篇
航天   525篇
  2024年   21篇
  2023年   70篇
  2022年   88篇
  2021年   82篇
  2020年   92篇
  2019年   81篇
  2018年   40篇
  2017年   70篇
  2016年   68篇
  2015年   68篇
  2014年   92篇
  2013年   77篇
  2012年   128篇
  2011年   148篇
  2010年   85篇
  2009年   107篇
  2008年   119篇
  2007年   109篇
  2006年   87篇
  2005年   79篇
  2004年   63篇
  2003年   84篇
  2002年   58篇
  2001年   60篇
  2000年   54篇
  1999年   40篇
  1998年   37篇
  1997年   47篇
  1996年   45篇
  1995年   36篇
  1994年   38篇
  1993年   48篇
  1992年   42篇
  1991年   47篇
  1990年   36篇
  1989年   30篇
  1988年   18篇
  1987年   14篇
  1986年   3篇
  1985年   2篇
  1983年   1篇
  1982年   1篇
  1981年   1篇
  1980年   1篇
排序方式: 共有2517条查询结果,搜索用时 31 毫秒
411.
抛丸清理技术及其应用中国航空工业总公司一六四厂高级工程师张惠生1问题的提出外贸千斤顶顶臂、侧板、机架等部件酸洗磷化时因钎焊夹缝处槽液清说不干净而产生锈蚀,造成质量隐患,需要工厂组织人力返工除锈,严重影响了批量生产进度。为了改善零组件表面清理质量,提高...  相似文献   
412.
413.
针对天体表面探测遥操作模拟验证需求和特点,设计实现了综合天体表面地形模拟、模拟星球车、地形扫描测量与遥操作处理评估等功能的天体表面探测遥操作模拟验证系统.以人工砂搭建可变形表面模拟环境,研制了具有感知、移动及规划结果响应功能的模拟星球车,提出了基于激光扫描的地形测量与星球车位姿测量方法,建立了基于模拟场景和星球车的天体...  相似文献   
414.
材料表面的二次电子发射会触发和维持空间高功率射频器件的共振雪崩放电现象,这种现象又被称为微放电效应。微放电效应是限制空间大功率微波部件应用的关键问题之一。从微放电作用的机理出发,首先介绍了两种微放电类型(单表面与双表面)的基本物理机理;然后总结了当前主流的微放电抑制方法并给出各自应用于空间大功率微波部件时的限制。针对空间大功率微波部件微放电抑制的特殊问题,综述了国内近5年来在表面处理法抑制微放电领域的研究成果并预测了微放电抑制技术的发展趋势。  相似文献   
415.
416.
问:地磁暴是什么原因引起的?答:太阳正处于11年活动周期的高峰期。这就意味着太阳表面活跃着相当数量的可见黑子。太阳黑子看起来像太阳的雀斑。实际上是太阳表面强烈的磁场活动的区域。这些黑子群能成为耀斑爆发和日冕物质抛射的来源。其中日冕物质抛射即太阳日冕中的带电粒子瞬时向外喷射的现象。  相似文献   
417.
《太空探索》2014,(3):38-41
<正>当"机遇"号发射上天的时候,美国航宇局希望"机遇"号到了火星后能够在着陆场附近转90个火星日,拍拍这颗红色星球的全景高清照片,玩玩沙子石头什么的。至于其他,那就算意外的礼物。没想到,自2004年1月25日安全着陆火星表面后,十年过去了,历经千辛万苦,"机遇"号还在火星溜达着。  相似文献   
418.
419.
420.
The application of surface textures has been employed to improve the tribological performance of various mechanical components. Various techniques have been used for the application of surface textures such as micro-dimple arrays, but the fabrication of such arrays on cylindrical inner surfaces remains a challenge. In this study, a dry-film photoresist is used as a mask during through-mask electrochemical micromachining to successfully prepare micro-dimple arrays with dimples 94 lm in diameter and 22.7 lm deep on cylindrical inner surfaces, with a machining time of 9 s and an applied voltage of 8 V. The versatility of this method is demonstrated, as are its potential low cost and high efficiency. It is also shown that for a fixed dimple depth, a smaller dimple diameter can be obtained using a combination of lower current density and longer machining time in a passivating sodium nitrate electrolyte.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号