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141.
我们已知每一个原始态空间基元都会崩离出一份物质,而这份物质与常态空间基元的中心体及运作体(亦可称之为循环体)互成对偶。由于中间体是稳定的平衡态而不发生分裂,故那一份分离出去的物质比常态空间基元少了一份中间体。那么,那份物质的体积是不是要小于空间基元?如果小于空间基元,那么那份物质所占据的那一份空间由于加进了物质而改变了结构,  相似文献   
142.
热处理对PBO纤维分子链结构和性能的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用红外光谱分析(FTIR)、示差扫描量热法(DSC)和磷含量分析方法研究了热处理对PBO纤维结构和性能的影响。结果表明,热处理使PBO纤维分子链中聚合后期少量的未关环反应趋向完全,使得PBO分子的共轭链长增加,弱键消失,提高了PBO纤维的力学性能;提高了分子链与链之间排列的有序性,使链与链之间堆砌更加紧密,使得热处理后的纤维较难溶于MSA中;热处理使PBO纤维表面化学组成发生变化,并使其表面粗糙化,能改善其表面润湿性能;热处理对纤维强度影响甚微,提高热处理温度、延长热处理时间和增大热处理张力,能提高PBO纤维的模量。  相似文献   
143.
研究了不同热处理温度对高硅氧织物增强甲基硅树脂复合材料室温弯曲强度的影响。结果表明,复合材料室温弯曲强度随着热处理温度的升高而降低,且在200~300℃、400~500℃分别出现了2个降低最快的温度区间。采用扫描电镜对复合材料弯曲断口的表面形貌进行了观察,并通过热重分析仪分别对基体树脂及增强体的热稳定性进行了测量。综合分析结果表明,当热处理温度低于400℃时,复合材料弯曲强度的降低主要是由于基体树脂与增强体之间的界面失效所致;而当热处理温度高于400℃时,增强体与树脂之间发生反应,导致增强体失效,是致使复合材料室温弯曲性能进一步下降的主要原因。  相似文献   
144.
工艺偏差对压阻式硅微压力传感器性能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
工艺实践表明,采用体硅湿法刻蚀工艺加工压阻式微型压力传感器时,敏感膜片会存在厚度偏差,电阻条偏离应力最大区域导致位置偏差,电阻条偏离期望的[110]晶向造成角向偏差.结合工艺实验并借助有限元法分析了上述几种主要工艺偏差对灵敏度、线性度等性能的影响.研究表明,2μm的厚度偏差会使灵敏度下降大约10%,线性度会明显下降;位置偏差会使敏感元件偏离应力最大区域而降低灵敏度:5°的电阻条角向偏差会使灵敏度下降大约3%.相关研究可为最大程度减小工艺偏差的影响提供参考依据.  相似文献   
145.
146.
人们看电影时会纳闷,摄影师是如何从振动的直升机上拍摄到清晰的航空镜头的?通常的方法是,一位勇敢的摄影师从直升机打开的机门上把自己悬挂好,然后用一台机械稳定的手持照相机对准景像。基于稳定器原理的减振器消除了振动;同时,带有配重的框架臂使得照相机易于操作。当然,能否得到预期的效果,最终还要依赖摄影师的技术水平。  相似文献   
147.
热物理性能对高硅氧/酚醛复合材料烧蚀性能的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
根据高硅氧/酚醛复合材料的烧蚀机理,建立了包括烧蚀退移层、化学反应边界层、液态层、炭化层、热解层、原始材料层的自外向内的物理模型,针对平板烧蚀问题,预报了热导率、比定压热容、驻点焓值等热物理性能对高硅氧/酚醛复合材料的表面烧蚀后退率、壁面温度、气化烧蚀速率、热阻塞效应因子、气化分数等烧蚀性能的影响.结果表明,低热导率能使表面烧蚀后退率明显降低,但却使壁面温度、热阻塞效应因子及材料的气化分数升高;而高的比定压热容则能大大降低表面烧蚀后退率和壁面温度;随驻点焓值的增加,表面烧蚀后退率和壁面温度都增大.  相似文献   
148.
Si对In718合金凝固过程及元素偏析的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文研究了Si对In718合金凝固过程及元素偏析的影响。结果表明,当Si含量升高后,不仅在枝晶或Laves相中偏析程度加剧,而且在枝晶内的浓度也逐渐升高而达到显著水平。Si降低Nb在Laves相中的溶解度,因而促进Laves相的析出,提高Laves相吸收剩余液体的能力,缩小偏析区的面积。分析认为,过分降低Si含量对改善合金凝固组织及提高终凝温度的作用不大。  相似文献   
149.
提高铸造铝合金质量的技术途径和方法   总被引:6,自引:0,他引:6  
根据国内外有关铸造铝合金熔炼技术的最新进展,以亚共晶铝硅合金为主要对象,就合金液的精炼、变质、细化处理等,论述提高铸造铝合金质量的技术途径和方法。  相似文献   
150.
用原位化学气相沉积方法同时沉积铬和硅于30CrMnSiNi2A钢上的研究已获成功。试验表明,理想涂层的试样在自来水、0.5%NaCl水溶液和0.5MH2SO4溶液中都显示了优良的抗蚀性。得到的涂层厚160~200μm,表面成分达到26%~34%Cr、约4%的Si(wt%)。该涂层是用90Cr-10Si(wt%)、中间合金、活化剂(95.5NaF+4.5NaCl)(wt%)和填充料(SiO2)在一定温度下保持若干小时得到的。  相似文献   
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