La0．9Ba0．1MnO3—δ薄膜的结构及物性研究

通过射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积了La0.9 Ba0.1MnO3-δ(IJBMO)薄膜,并得到在不同温度下退火后的薄膜.采用X射线衍射(XRD),扫描隧道显微镜(STM),X射线光电子能谱(XPS),四探针法等手段对退火后薄膜的结构、微结构、表面化学态、磁电阻等性质进行了系统研究,结果表明,薄膜在800～850℃温度范围内退火,形成单相结构且晶粒与基片之间存在着相对固定的外延关系.退火温度不同会引起薄膜中含氧量的不同.在温度为300K,磁场为1.5T的条件下,退火温度为850℃的薄膜样品磁电阻可高达30%.     

孔间距和前倾角对进出口扩张形气膜孔流量系数的影响(英文)

Discharge coefficients of 3-in-1 hole of three inclination angles and three spacing between holes are presented which described the discharge behavior of a row of holes. The inlet and outlet of the 3-in-1 hole both have a 15° lateral expansion. The flow conditions considered are mainstream turbulence intensities and density ratios of secondary flow to mainstream. The momentum flux ratios varied in the range from 1 to 4. The comparison is made of the discharge coefficients of three shaped holes to find an optimal hole with low flow loss. The results show that the discharge coefficients of 3-in- 1 hole are highest in three shaped holes and therefore this article is focused on the measurements of discharge coefficients of 3-in-1 hole for various geometries and aerodynamic parameters. The measured results of 3-in-1 hole indicate that turbulence intensities, density ratios and momentum flux ratios have weak influence on discharge coefficients for inclination angle of 20°. The high turbulence intensity yields the small discharge coefficients for inclination angle of 45° and 90°. The increased both momentum flux ratios and density ratios lead to the increased discharge coefficients for inclination angle of 45° and 90°. The increased inclination angle causes the rapidly increased discharge coefficients. There is a weak dependence of discharge coefficients on hole pitches.     

利用W型槽提高气膜冷却效率机理

为了探讨圆柱孔出口开有W型槽结构的气膜冷却机理,数值模拟研究了W型槽与横向槽下游流场、温度场及气膜冷却效率。分析了W型槽深度对气膜冷却效率的影响。结果表明:相比于横向槽,W型槽结构展向平均气膜冷却效率提高70%～130%。随着W型槽深度增加,气膜孔出口下游的对漩涡减弱,两侧的附加漩涡增强,最终形成一对反向对漩涡。小吹风比0.5时,三种W型槽深结构的展向平均气膜冷却效率差别小于8%;大吹风比1.5时,槽深0.5D(D为气膜孔孔径)结构展向平均气膜冷却效率高于槽深0.25D结构的展向平均气膜冷却效率75%～150%。槽深0.5D和0.75D结构的展向平均气膜冷却效率基本相同,差别小于3%。     

湿热对PI/ MoS2 涂层性能的影响

对钛合金表面的PI/Mo S2涂层进行了湿热老化试验,在70℃、98%RH条件下存储长达27 d。采用衰减全反射红外光谱和透射红外光谱分别对涂层表面及涂层进行分析测试,利用X射线光电子能谱对涂层表面成分进行分析。通过球盘摩擦试验机考察了湿热老化对润滑涂层的真空及大气摩擦性能的影响。采用拉脱法测试了湿热老化前后涂层附着力。结果表明,湿热会导致PI/Mo S2润滑涂层表面的胶黏剂聚酰亚胺被水解侵蚀,膜层表面深度在50 nm以内的部分Mo S2被氧化。湿热试验前后涂层的真空耐磨寿命降低13%,大气耐磨寿命降低16%;真空摩擦因数略有增加且波动增大,而大气摩擦因数显著增加,涂层附着强度也略显降低。     

耐４２０℃聚酰亚胺复合材料成型工艺

通过对耐420℃聚酰亚胺树脂的化学反应特性、流变性能分析以及加压时机和压力大小等成型工艺参数对复合材料性能的影响,确定了最优的复合材料成型工艺。同时采用超声水穿透法对制得的复合材料进行超声检测,并结合金相显微镜分析讨论了衰减比例与孔隙率之间的关系,确定了超声检测参数。结果表明:分段阶梯加压,可有效控制复合材料的树脂含量和孔隙率,选用5 MHz探头、15 d B增益的超声水穿透检测参数可有效评判2~3 mm厚复合材料的成型质量。研制的聚酰亚胺复合材料在420℃的弯曲强度保持率为65%,弯曲模量保持率为89%,表现出良好的高温性能。     

杂化聚酰亚胺的制备及其耐原子氧剥蚀性能

低地球轨道环境中的原子氧会剥蚀航天器表面材料,影响其性能和寿命,因此在使用时需要选用合适的手段来进行原子氧防护。采用溶胶-凝胶法,利用正硅酸乙酯在树脂体系中的水解-缩合反应,在基体中原位生成无机相而获得杂化聚酰亚胺。在原子氧效应地面模拟设备中,对杂化聚酰亚胺试样开展了性能评估试验,总结了试验前后试样的质量、表面形貌和表面成分的变化特点,并分析了材料耐剥蚀性能与正硅酸乙酯添加量的关系、杂化材料的耐剥蚀机理。结果表明,杂化聚酰亚胺的耐原子氧性能优于原树脂,其原子氧试验质量损失仅为原树脂的31。6% ~14。8%。分析认为,溶胶-凝胶过程中在树脂基体中生成的有机含硅结构和无机SiO₂,以及原子氧作用下杂化材料表面生成的SiO₂保护层,是杂化材料耐原子氧剥蚀性能提高的原因。     

碳纳米管薄膜传感器及其应变传感特性

碳纳米管薄膜可作为应变传感器用于结构损伤的健康监测。采用机械搅拌、超声处理和高速离心等分散工艺将多壁碳纳米管单分散后,通过真空吸滤法制备碳纳米管薄膜。对碳纳米管薄膜传感器进行了深入的研究,设计了一种高灵敏度的碳纳管薄膜应变传感器,与结构基体一体成型。弯曲应变传感实验表明碳纳米管薄膜传感器在不同的应变范围、不同的循环次数、不同的温度范围等条件下都具有良好的应变传感特性。结果表明碳纳米管薄膜传感器灵敏度较高,灵敏度系数为188.31(0~22 500 με),且具有较好的应变传感可逆性和可重复性。      

超音速射流气膜冷却效果的试验研究

以二维平板模型高速导弹头罩上的探测窗口,用电加温产生的热气流模拟导弹飞行时的气动加热,对采用气膜邓控制导弹探测窗口温度的效果及规律进行了研究。着重探讨了气膜冷却临界长度ＬＣ与气膜冷却有效度η随射流缝高Ｓ,喷射率λ及主射流夹角α等参数的变化规律,并总结出一个相关参数及一些经验公式。研究结果与国外有关文献基本一致。     

(001)SiO2衬底上LiNbO3光波导薄膜的制备

采用脉冲激光淀积技术,在（００１）取向的ＳｉＯ２衬底上制备了ＬｉＮｂＯ３薄膜。为了防止淀积过程缺氧,往淀积腔内充入１０～１５Ｐａ的流动氧气,淀积速度０．３～１．０ｎｍ／ｍｉｎ,淀积时间１ｈ,淀积结束后,充入０．６Ｐａ的氧气,在６５０℃保温０．５ｈ。采用ｘ射线衍射和扫描电镜对ＬｉＮｂＯ３薄膜的微观结构及表面形貌进行了检测。结果表明：ＬｉＮｂＯ３薄膜具有（０１２）,（０２４）典型的ＬｉＮｂＯ３粉末晶体衍射峰,薄膜成分晶体结构比较纯净,而且薄膜表面光滑。利用棱镜耦合法将波长为０．６３８μｍ的激光束耦合到ＬｉＮｂＯ３薄膜中,观察到ＬｉＮｂＯ３薄膜具有较好的光波导性能,可望应用于非线性光学器件     

用衰减全反射(ATR)研究金属薄膜的物理性质

本文作者所设计的实验是利用光学中全反射衰减特性方法测量在介质上蒸镀的金属薄膜的厚度和各种频率下的复介电常数等物理性质,它可以精确测定１００～１０００范围内金属膜层的厚度和ε（ω）值,以及一些其它性质,是研究固体表面物理的一种有效的方法和技术。