低应力光学系数、高光学性能脂环族聚酯的合成工艺与表征

采用1,4-环己烷二甲醇(CHDM)与1,4-环己烷二甲酸(CHDA)通过两阶段连续反应合成脂环族聚酯———聚(1,4-环己烷二甲酸-1,4-环己烷二甲醇酯)(PCCD)。研究了常压酯化阶段和真空缩聚阶段的合成工艺,包括酯化温度、缩聚温度和真空压强对聚合反应的影响,获得较理想的制备条件;采用红外光谱和核磁共振分析反应产物,表明其化学结构特征符合PCCD的分子特点。最后进行光学性能测试,实验结果表明,合成出的PCCD是一种具有低应力光学系数的高透光率、低雾度和低黄色指数透明材料。     

POE-g-MAH和PC协同增韧聚对苯二甲酸丁二酯的脆韧转变

研究马来酸酐接枝乙烯-辛烯共聚物弹性体(POE-g-MAH)和热塑性树脂(PC)协同增韧聚对苯二甲酸丁二酯的脆韧转变,借助扫描电镜(SEM)观察分析增韧体系的相形态和断口形貌,并对增韧机理进行探讨.结果表明,添加PC后,共混体系的脆韧转变在较低POE-g-MAH含量下发生.当PBT与PC质量配比为50/50时,共混物在POE-g-MAH含量为10%时获得超高韧性,达到78kJ/m2,同时拉伸强度达到52.5MPa.SEM分析认为,PC含量较高时,呈现极不规则的近似条状或片状的分散相结构,以及柔性界面层的存在是共混体系在较低弹性体含量下出现脆韧转变而获得高强韧性的主要机制.     

氰酸酯基耐高温低介电载体胶膜的制备与性能

为了满足现代高性能雷达天线罩结构粘接的要求,本文研制了氰酸酯基耐高温、低介电栽体结构胶膜.以烯丙基化酚醛/双马树脂改性,在保持该胶膜耐高温性能的同时,改善了室温力学性能.通过加入贮存稳定荆解决了胶膜常温贮存期差的问题.胶膜在380℃下的剪切强度大于5 MPa.测试频率为9 375 MHz时,胶膜在380℃下的介电常数变化率小于5%.实验结果表明,该胶膜可用于耐高温透波材料的结构粘接.     

pH值对硅酸钇涂层结构影响的研究

采用一种新颖的水热电沉积方法直接在石墨表面制备了硅酸钇涂层,利用XRD,EDS和SEM等测试手段对涂层进行测试分析,重点研究了电沉积前驱溶液pH值对涂层显微结构的影响.结果表明:当前驱液的pH值为1.5～3.0及水热温度为150℃时,即可制备出硅酸钇涂层.随前驱液pH值增加,涂层开裂趋势减弱,结晶趋势增强,致密度有所提高.     

基于甲基三甲氧基硅烷/正硅酸乙酯的聚碳酸酯耐磨涂层

以甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为主要成膜物质,引入正硅酸乙酯(TEOS)水解产物硅溶胶作为无机增强物,采用溶胶凝胶法在聚碳酸酯(PC)表面形成耐磨涂层。结果表明:PC表面形成了Si—O—Si的交联网络结构。通过测试耐磨实验前后光学性能的变化研究表面涂覆涂层的聚碳酸酯的耐磨性能与涂层组分之间的关系。当涂层原料MTMS和TEOS的摩尔比为2∶1时,聚碳酸酯的耐磨性能达到最优,500次摩擦后雾度为13.22%,为纯PC的56.21%。     

纳米石墨微片/聚丙烯酸酯导电压敏胶的制备研究

以纳米石墨微片(NanoG)为导电填料,聚丙烯酸酯为基体,采用溶液共混法制备了纳米石墨微片/聚丙烯酸酯导电压敏胶.扫描电镜( SEM)显示纳米石墨微片直径为1～10μm,厚度为20～80nm.红外光谱测试(FTIR)表明纳米石墨微片与聚丙烯酸酯之间形成了氢键,两者形成了均相的复合体系.透射电镜(TEM)揭示了纳米石墨微...     

硫代磷酸三苯酯和α-巯基苯并噻唑用作添加剂时在钢球表面上的摩擦磨损特征

分别运用四球摩擦试验机、磨粒铁谱分析技术和俄歇电子能谱表面分析技术对硫代磷酸三苯酯(TPPT)和α 巯基苯并噻唑(MBT)用作酯类航空润滑油的极压抗磨添加剂时的摩擦磨损特征进行了研究。结果表明,硫代磷酸三苯酯综合了磷系和硫系添加剂的优点,既具有在低负荷下的抗磨作用,又能够保证在高负荷下的极压作用;而α 巯基苯并噻唑由于在摩擦表面只能生成无机的硫化铁膜,只具有在高负荷下的极压作用,而在低负荷下的作用效果较差。文章最后指出,在航空润滑油中,硫代磷酸三苯酯完全能够代替α 巯基苯并噻唑作为极压抗磨剂使用。