脉冲星方位误差估计的两步卡尔曼滤波算法

为了克服钟差和卫星位置误差对脉冲星方位误差估计的影响,设计了两步卡尔曼滤波（TSKF）算法。首先,介绍了脉冲星方位误差估计的传统模型,并通过分析和仿真验证了钟差、卫星位置误差以及2种误差同时存在时会使脉冲星方位误差估计结果产生较大偏差。其次,在传统的估计模型中加入了钟差和卫星位置误差,并将钟差和钟差变化率增广为新的状态量,从而推导出包含2种误差的新模型,并证明了该模型的完全可观测性;根据该模型并按照两步卡尔曼滤波原理,得到了TSKF算法的步骤。最后,通过仿真表明:在钟差和卫星位置误差同时影响下,传统脉冲星方位误差估计算法偏差较大且发散;TSKF算法则能够有效隔离2种误差的影响,使赤经和赤纬误差估计达到0.2 mas之内的精度。      

基于快速提升KLDA准则的MSTAR SAR目标特征提取与识别研究

 核线性判别准则(KLDA)是一种非线性特征提取准则。利用KLDA提取MSTAR SAR图像特征,既达到较理想的识别概率,又可克服SAR图像对方位的敏感性。但此时训练样本最多,KLDA的计算代价高。为了解决这一问题,提出一种快速特征向量选择法（FFVS）。FFVS把类别和方位相似的SAR图像分成若干组,然后快速选择各组中部分图像组成一个集合且其到高维特征空间的映射作为一组基。利用该组基的线性组合表示任一样本和投影算子,降低了KLDA中核矩阵的阶数,达到降低计算代价的目的。实验结果表明,FFVS与KLDA组合能达到理想的识别结果。     

观察宇宙现象

很久以前,我们的祖先是通过肉眼观察遥远星星的方位变化来认知宇宙,世界上最早用科学和数学解释自然的是古希腊人,他们曾用星体的映射关系,测量出地球的尺寸是如此惊人地准确。     

一种基于INS/RA组合导航的着陆指引方式实现

本文设计了一种基于惯导系统(Inertial Navigation System,INS)/无线电高度表(Radio Altimeter,RA)组合导航的着陆指引方法。利用飞机普遍装配的惯导系统与无线电高度表测得飞机位置与高度信息,经过计算获得飞机进场的相关指引数据。     

双流机场雾的结构化实例分析

本文按渍变理论的涡流旋转滚流结构观点和方法体系，运用V-3θ结构分析和方位相空间结构分析双流机场雾发生、发展的物理机理。将自动气象站观测的时序性数量信息转换为结构信息，既体现雾发生、发展过程的非规则的特征，又便于识别。并对双流机场雾的预测进行了实例分析。     

惯导平台式重力测量技术实现及应用

详细阐述了解析方位双轴惯导平台式重力测量的工作原理,并通过基于方位余弦积的惯导力学编排解决了极区工作问题。在常规平台式重力测量数据处理方法的基础上,针对高动态环境提出了基于Kalman滤波的运动扰动修正方法。在此基础上研制了ZL11-1A型国产惯导平台式海洋重力仪。通过与国外主流重力仪产品海上同船作业比对,结果表明,该型重力仪在高海况下测量精度依然优于1mGal,满足重力测量作业要求。     

一种复合的SAR压制干扰方法研究

覆盖式干扰是一种对合成孔径雷达有效的干扰样式,有效覆盖面积是评价覆盖干扰效果的重要指标之一,如何有效地对干扰范围进行扩展是研究的热点问题,具有较高的研究价值。在介绍3种不同干扰方法的原理与干扰效果之后,对方法进行了结合,提出了1种可以有效扩展干扰区域范围的干扰模型。方法以二维锯齿调频干扰为基础,利用频移干扰扩展距离向干扰区域,利用方位向间歇采样技术扩展方位向干扰区域。不仅原理简单,更加利于工程实现。最后,利用单一点目标对方法进行了验证,仿真实验的结果证实了方法的准确性与可靠性。     

角度棱镜方位对干涉仪测角范围的影响

在激光测角干涉仪中,由于角度棱镜安置的方位不同,将导致该仪器角度测量范围的变化。分析了角度棱镜的方向和位置对角度测量范围的影响,比较了不同方案的优劣,并给出了结论。     

旋转微动目标的SAR成像特性分析

旋转因具有不同方向上的运动分量而对SAR回波具有复杂的多普勒调制作用,进而形成特殊的成像结果。详细分析了旋转微动目标的SAR图像特征、图像形式以及位置关系,指出不同运动参数的旋转微动目标可形成方位向上等间隔分布的、幅度受第一类贝塞尔函数调制的互相独立、交接或交错的直线型、直线点列型、直线条带型以及直线圆列型图像,并给出了以上图像形式和位置关系的形成条件;实验验证了理论分析的正确性。该研究结果深化了对旋转微动目标的SAR成像特性的认识,可有助于判定旋转微动目标的存在,为其特征提取奠定基础。
     

不锈钢镜面的游离磨粒精密加工

利用游离磨粒加工方法对马氏体平面不锈钢SUS440C试件进行精密加工.通过田口实验方法对研磨阶段的工艺参数进行了优化,涉及的工艺参数包括研磨盘转速、加工载荷和加工时间.利用优化的研磨工艺加工后试件表面粗糙度达Ra72nm.抛光过程中使用聚氨酯抛光垫和二氧化硅磨粒,经抛光后试件表面粗糙度达Ra8nm、表面呈镜面.