表面热膜在高超声速边界层中的应用

本文针对标准10°圆锥在不同攻角下边界层的转捩和流动分离现象进行了试验研究.在高超声速情况下,应用表面热膜试验技术测得了10°圆锥在不同攻角下的壁面摩擦应力和动态信号数据.试验研究结果表明表面热膜技术可以成功地应用到高超声速的边界层研究中.所得到的数据有助于正确理解高超声速的边界层的特性.特别是驻点线上,边界层的发展有其特殊的规律.     

微小卫星液化气推进技术

为满足微小卫星推进系统轻质、小型化和低成本的要求，推荐了以氨为推进剂的液化气推进系统，它既保持冷气推进系统结构简单的优点，又克服了冷气推进剂贮苎存体积大的缺点。分析结果表明，以氨为推进剂的液化气推进系统具有多种优点，是微小卫星理想的推进系统。     

不同液压条件下锥形液膜破碎的实验研究

应用PIV激光粒子图像测速仪对由离心式压力雾化喷嘴喷出的锥形液膜的破碎进行了实验研究。澜得了不同压力下的扰动波波长、波速和振幅。研究结果表明，液膜半锥角随着液压的增加而增加，半波长的液膜段剥落后几乎立即破碎成液滴，看不到明显的液膜段收缩成液丝的过程。由实验拍摄的图像看，长、短扰动波同时存在，共同影响液膜的破碎。这些数据可用于发展锥形液膜初始雾化模型。     

稀土对热浸镀铝钢Al_2O_3／渗铝层界面空洞生长的影响

通过高温氧化试验以及测量空洞平均直径和形核数量随氧化时间的变化,研究稀土对Al2O3/渗铝层界面空洞生长和抗高温氧化性能的影响,并与渗纯铝试样进行比较.结果表明,渗铝稀土试样空洞平均直径的增长速率仅是渗纯铝试样的1/2,空洞平均深度随平均直径的增长速率仅是渗纯铝试样的3/5,单位面积上的空洞数量少于渗纯铝试样.稀土可抑制界面空洞的形核和生长,阻止空洞向渗铝层纵深扩展,提高渗铝钢的抗高温氧化性能.探讨了稀土抑制空洞形核和生长的机理.     

钛合金阳极氧化膜厚度检测方法探讨

通过分析钛合金阳极氧化膜的特点及其厚度变化规律,对比分析了各种氧化膜厚度检测方法的优缺点,指出各种检测方法的适用范围。     

铝合金铬酸阳极化工艺研究

针对铬酸阳极化的耐蚀性及油漆附着力不合格问题。从阳极化原理及实际生产经验出发讨论了影响阳极化膜层质量的因素及相应的质量保证措施。     

抗静电薄膜的性能和在卫星上的应用

本文给出了研制的三种抗静电薄膜系列：ＩＴＯ，ＩＯ，ＴＯ的电学，光学性能实测结果。薄膜系用磁控溅射方法在Ｋａｐｔｏｎ，Ｍｙｌａｒ等柔性基底上制备。试验表明导电的稳定性很好。同时还进行了模拟亚暴环境下抗静电膜的表面电导测试。结果表明经过改性的柔性二次表面镜可有效地消除静电积，累使电位控制在８０Ｖ以下，而未经镀敷抗静电膜的柔性二次表面镜，表面充电电位可高达８－１０ｋＶ。     

多层膜光学常数的迭代椭偏测量研究

论述了多层薄膜光学的椭偏测量原理以及测量方法，采用导纳矩阵计算多层的椭偏参数；采用统计试验法与单纯形法相结合的数值逼近法进行反演计算。更重要的是本文首次提出迭椭偏测量法，使测量的重复性和精确度都大大提高。所谓选代椭偏测量法是不断地优选椭偏测量入射角，从而选出对核样品来说最佳椭偏测量入射角。用这种方法精确测量了相变光盘记录介质膜晶态下的光学常数，这对于相变光盘膜系结构优化设计很重要。     

Si/Co/Cu/Co多层膜中巨磁电阻效应及与微结构的关系

用超高真空电子束蒸发方法在Si（100）衬底上制备了Si／Co／Cu／Co多层膜。发现当Si层厚度达到0．9nm时，多层膜中开始出现较强的平面内各向异性巨磁电阻效应。在Si1．5nm／Co 5nm／Cu3nm／Co5nm多层膜中，作者在其易轴上得到了5．5％的巨磁电阻值和0．7％／Oe的磁场灵敏度。用X射线衍射和透射电镜研究了si／Co界面之间的相互扩散，发现在Si层与Co层间形成了Co—Si化合物层，这个硅化物界面层诱导了其上的Co／Cu／Co三明治膜中的平面内磁各向异性乃至整个多层膜的平面内各向异性巨磁电阻效应。原子力显微镜表面形貌分析表明，随Si层厚度增大，Co／Cu／Co三明治膜的界面平整度得到改善，从而使巨磁电阻值增大。     

用液晶膜技术显示边界层转捩

液晶膜是一种新型液晶制成品,系三层结构。对温度敏感的液晶沉积在外层塑料膜和内层黑衬底之间。液晶膜的底面带胶,可直接贴在试验模型表面上。本文简要介绍了低速风洞中的液晶膜技术、液晶膜的构造和显示边界层转捩的原理,并将它应用于声激发控制边界层转捩研究。实验结果表明,液晶膜技术是一种简易可行的显示边界层转捩的新方法。它可以显示转捩过程的起始与结束以及转捩位置随试验条件的变化。与常规液晶技术相比,其优点是使用方便,无需熟练的液晶配制技能和喷涂经验,免受外界污染。液晶膜技术特别适合应用于二元模型。