钛合金高效磨削液的探索

针对钛合金的磨削特点及对磨削液的要求,分析阐述了GF-2#及GF-3#磨削液的磨削性能;磨削液对砂轮粘附的影响.通过对比选出最佳磨轮,并给出最终结论.     

轮带光学抛光技术与实验研究

针对自由曲面、保形光学零件的抛光需求,研制了轮带光学抛光的工程样机.从理论上分析了轮带抛光的去除函数模型并在实验中提取了轮带抛光的去除函数.通过在K9玻璃和SiC平片上进行环带扫描抛光,检测轮带抛光技术抛光光学材料的加工效果.实验结果表明,轮带抛光具有材料去除效率高,能达到光学表面质量效果且工件无需预抛等特点.     

磁流变抛光近零亚表面损伤工艺研究

实验表明磁流变抛光以其独特的剪切去除机理可用于光学元件亚表面损伤的去除,并且自身不产生新的划痕,同时还可提升光学元件的表面质量,可作为高效加工无损光学元件的一种工艺。     

TC4合金低塑性抛光过程数值模拟

为了研究低塑性抛光工艺参数对材料表面性能的影响,采用有限元分析软件ANSYS对TC4合金板材低塑性抛光表面强化过程进行了数值模拟。运用单因素试验法分别分析了液压油预压力、滚压速度、滚压道次、进给量4个工艺参数对表面残余应力的影响。结果表明:液压油预压力对残余应力分布影响最大,增加液压油预压力可使残余压应力层深度明显增加;滚压速度和滚压道次主要影响表面残余应力,表面残余压应力随滚压速度减小和滚压道次增加而增大;进给量对残余应力分布均匀性有显著影响,减小进给量可使均匀性增高。通过对比残余应力分布,建议液压油预压力设为450 N,滚压速度取为10 mm/s,进给量取为0.1 mm,滚压道次选择为3次。研究结果可为TC4合金低塑性抛光试验工艺参数选取提供理论参考。     

稳恒磁场安培环路定理的论述与推导

稳恒磁场安培环路定理是磁场的重要场方程,它反映了磁场的涡旋性及磁场与电流的关系,给出通过电流的分布求解具有某种对称性系口均匀性磁场的途径.文中准确地叙述了磁场安培环路定理,并对该定理给出了详细准确的论证,它克服了一些〈大学物理〉教材中关于磁场安培环路定理叙述的不准确问题,并避免了由于环路定理叙述的不准确而造成求解由电流产生磁场的某些错误,对进一步认识和理解磁场的性质将有所帮助,也给出用矢量场分析磁场性质的一种方法.     

激光功率谱检测砂轮磨损的若干技术问题

激光功率谱借助电子计算机能时高速砂轮的磨损进行在城非接触式检测．概要介绍了激光功率话检测原理，检测装置，较详细叙述了激光功率谱对砂轮磨损的在线监测的可行性和监测试验，并指出本检测装置能实现全自动检测，10s内完成10240个数据的采集处理及打印，借助砂轮摩耗磨粒切刃的分布图形能直观评判整个砂轮的磨损状态．     

磨粒流去除电解加工型面腐蚀层的工艺研究

介绍了整体叶轮叶片型面经电争加工成形后为去除晶间腐蚀和表面腐蚀层采了以的磨粒流加工的主要工艺措施及其效果。     

抛光沥青的剪切应变规律

研究了沥青在不同组分、温度及剪切力时呈现的3种剪切应变规律：硬脆的玻璃态、柔韧的粘弹态和易于流动的粘流态．根据沥青的剪切应变的特性，一种新型的双层结的沥青抛光模被用于超精密光学抛光。