轮带光学抛光技术与实验研究

针对自由曲面、保形光学零件的抛光需求,研制了轮带光学抛光的工程样机.从理论上分析了轮带抛光的去除函数模型并在实验中提取了轮带抛光的去除函数.通过在K9玻璃和SiC平片上进行环带扫描抛光,检测轮带抛光技术抛光光学材料的加工效果.实验结果表明,轮带抛光具有材料去除效率高,能达到光学表面质量效果且工件无需预抛等特点.     

9月1日国航全面使用新版电子客票行程单旅客行程单只能在原出票地索取

从9月1日开始,根据民航局相关规定．国航全面启用新版电子客票行程单．旅客在索取电子行程单时也要特别注意．带有税务部门的新版电子客票行程单只能在原出票地索取．航空公司售票点将不再提供。     

平面研磨抛光轨迹研究

介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足.     

磁流变抛光近零亚表面损伤工艺研究

实验表明磁流变抛光以其独特的剪切去除机理可用于光学元件亚表面损伤的去除,并且自身不产生新的划痕,同时还可提升光学元件的表面质量,可作为高效加工无损光学元件的一种工艺。     

磨粒流去除电解加工型面腐蚀层的工艺研究

介绍了整体叶轮叶片型面经电争加工成形后为去除晶间腐蚀和表面腐蚀层采了以的磨粒流加工的主要工艺措施及其效果。     

电火花加工中心加工超行程工件技术

简要介绍了利用一加长板构件实现了在现有设备上同基准加工超行程工件，较好地解决了“东三”二馈喇叭阵、接收层、发射层因设备行程不够而带来的工件重复装夹、加工基准不重复、工件精度难以保证等问题。加长板构件的简单、可靠性，保证了我所“东三”二馈任务的进度。     

抛光沥青的剪切应变规律

研究了沥青在不同组分、温度及剪切力时呈现的3种剪切应变规律：硬脆的玻璃态、柔韧的粘弹态和易于流动的粘流态．根据沥青的剪切应变的特性，一种新型的双层结的沥青抛光模被用于超精密光学抛光。     

KDP晶体潮解抛光行程的分析

在对KDP晶体潮解抛光原理进行阐述的基础上，对KDP晶体潮解抛光过程进行了运动学分析，得到了KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程的表达式。根据抛光行程表达式和计算条件，分别计算了载样盘转数、载样盘圆心与抛光垫圆心之间的水平距离、载样盘圆心与其摆动圆心之间的水平距离、摆动周期取不同值时KDP晶体表面上一点相对于抛光垫的抛光行程，并绘制了抛光行程曲线，通过对抛光行程曲线的分析，得到了这些参数对抛光行程的影响规律。     

基于电磁铁励磁的圆孔磁流变抛光头研究

根据圆孔光学元件的抛光特点，采用有限元仿真分析磁极头厚度、气隙宽度及铁芯宽度等因素对磁场强度的影响规律，设计优化了一种新型高效抛光头，获得磁场强度最大值为H=144520A/m且覆盖宽度l=1.37mm，并对K9光学玻璃进行了抛光试验。试验结果表明：采用电磁铁励磁的磁流变抛光头可以实现光学元件表面的高精度面型加工。